2.3. Coating and films preparationCo

2.3. Coating and films preparation
Coating formulations were prepared under a completely randomized design with factorial arrangement, where factors, A
= chitosan concentrations of: 0.5, 1.0 and 1.5% (w/v); B = glycerol concentrations of: 0.5, 1.0 and 1.5% (v/v); C = Tween 80 concentrations of: 0, 0.1 and 0.2% (w/v) were studied (Table 2).

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

2.3. การเคลือบ และการเตรียม filmsสูตรเคลือบวจัดทำขึ้นภายใต้การออกแบบสุ่มอย่างสมบูรณ์ด้วยการจัดการแฟกทอเรียล ซึ่งปัจจัย A =ความเข้มข้นของไคโตซาน: 0.5, 1.0 และ 1.5% (w/v); B =ความเข้มข้นของกลีเซอรอล: 0.5, 1.0 และ 1.5% (v/v); C =ความเข้มข้น 80 โลก: 0, 0.1 และ 0.2% (w/v) ที่มีศึกษา (ตารางที่ 2)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

2.3 เคลือบผิวและ Fi LMS เตรียม
สูตรเคลือบได้จัดทำขึ้นภายใต้การออกแบบแบบสุ่มสมบูรณ์ด้วยการจัดปัจจัยที่ปัจจัย, A
= ความเข้มข้นของไคโตซานของ: 0.5, 1.0 และ 1.5% (w / v); ความเข้มข้น B = กลีเซอรอลของ: 0.5, 1.0 และ 1.5% (v / v); C = Tween 80 ความเข้มข้น 0, 0.1 และ 0.2% (w / v) การศึกษา (ตารางที่ 2)

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

2.3 เคลือบและจึงจัดเตรียมสูตรเคลือบถูกเตรียมภายใต้ Completely Randomized Design จัดช่วงที่ปัจจัย , เป็น= ไคโตซานความเข้มข้น 0.5 , 1.0 และ 1.5 % ( w / v ) ; b = กลีเซอรอลความเข้มข้น 0.5 , 1.0 และ 1.5 เปอร์เซ็นต์ ( v / v ) ; C = Tween 80 ที่ความเข้มข้น 0 , 0.1 และ 0.2% ( w / v ) ที่แตกต่างกัน ( ตารางที่ 2 )