Nanoimprint lithography is a method

Nanoimprint lithography is a method of fabricating nanometer scale patterns. It is a simple nanolithography process with low cost, high throughput and high resolution. It creates patterns by mechanical deformation of imprint resist and subsequent processes. The imprint resist is typically a monomer or polymer formulation that is cured by heat or UV light during the imprinting. Adhesion between the resist and the template is controlled to allow proper release.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ภาพพิมพ์หิน Nanoimprint เป็นวิธีการ fabricating nanometer ขนาดรูปแบบ มันเป็นกระบวนการง่าย ๆ nanolithography ด้วยอัตราความเร็วสูง ต้นทุนต่ำและความละเอียดสูง สร้างลวดลาย โดยแมพกลต่อต้าน imprint และกระบวนการต่อมา ต่อต้าน imprint จะกำหนดน้ำยาหรือพอลิเมอร์ที่หาย โดยความร้อนหรือแสงระหว่างการ imprinting UV การยึดติดระหว่างตัวต้านทานและแบบควบคุมให้ปล่อยที่เหมาะสม

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

nanoimprint พิมพ์หินเป็นวิธีการผลิตนาโนเมตรรูปแบบขนาด มันเป็นกระบวนการนาโนง่ายด้วยต้นทุนต่ำอัตราความเร็วสูงและความละเอียดสูง มันจะสร้างรูปแบบโดยการเปลี่ยนรูปทางกลของสำนักพิมพ์ต่อต้านและกระบวนการที่ตามมา ประทับต่อต้านโดยปกติจะเป็นโมโนเมอร์หรือพอลิเมอสูตรที่รักษาให้หายได้ด้วยความร้อนหรือแสงยูวีในระหว่างประทับ การยึดเกาะระหว่างต่อต้านและแม่แบบจะถูกควบคุมเพื่อให้การเปิดตัวที่เหมาะสม

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

nanoimprint ทั้งหมดเป็นวิธีการของการผลิตระดับนาโนเมตรรูปแบบ มันคือกระบวนการนาโนลิโทกราฟีง่ายด้วยต้นทุนต่ํา , throughput สูงและความละเอียดสูง สร้างรูปแบบการเชิงกลของรอยขัดขืนและกระบวนการที่ตามมา สํานักพิมพ์ต้านทานปกติคือ โมโนเมอร์ หรือ โพลีเมอร์ ตำรับที่หายจากความร้อนหรือแสง UV ระหว่างพิมพ์ .การยึดเกาะระหว่างต่อต้านและแม่แบบที่ถูกควบคุมเพื่อให้รุ่นที่เหมาะสม