The continuous decrease of resistan

The continuous decrease of resistance with increase in humidity
may be due to formation of hydroxide and hydronium ion after
dissociative adsorption of H2O on PPy-g-Cellu surface.

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

การลดลงอย่างต่อเนื่องของความต้านทานกับการเพิ่มขึ้นในที่มีความชื้นอาจจะเกิดจากการก่อตัวของไอออนและไฮโดรเนียมไฮดรอกไซหลังจากการดูดซับของทิฟH2O ใน PPY-G-Cellu พื้นผิว

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

การลดลงของความต้านทานเพิ่มขึ้นในความชื้น
อาจจะเกิดจากการก่อตัวของไฮดรอกไซด์ไอออน และ hydronium หลังจากการสูญเสียการดูดซับบนพื้นผิวของ H2O

ppy-g-cellu .