The sputtering chamber was pumped d

The sputtering chamber was pumped down to 6.65×10−6 Pa by cryogenic pump in which the AZO target was exposed to Ar plasma for 5min to clean the target surface

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

หอสปัตเตอร์ถูกสูบลงไป 6.65 × Pa เวลา 10-6 โดย cryogenic ปั๊มซึ่งเป้าหมาย AZO ษทมัคพลา Ar 5 นาทีทำความสะอาดพื้นผิวเป้าหมาย

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ห้องสปัตเตอร์ถูกสูบลงไป 6.65 × 10-6 ป่าโดยปั๊มแช่แข็งซึ่งในเป้าหมาย AZO ได้สัมผัสกับเท่นพลาสม่าสำหรับ 5 นาทีในการทำความสะอาดพื้นผิวเป้าหมาย

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ในห้องทำงานถูกสูบลงไป 6.65 × 10 − 6 PA โดยปั๊ม cryogenic ที่อะโซเป้าหมายโดน AR พลาสมาสำหรับ 5 นาทีเพื่อทำความสะอาดพื้นผิวเป้าหมาย