Nickel films up to 20/~m thick have

Nickel films up to 20/~m thick have been selectively
deposited on exposed silicon surfaces in an electroless plating
process. Roughening of the silicon surface is found to be
critical for good adhesion of the plated nickel to the silicon
substrate. The most suitable pretreated surface for electroles~
plating had many small (e.g., less than 1 p~n) etch pits and
provided smooth nickel surfaces after plating. Optimum plating
conditions for smooth surfaces and practical deposition
rates are determined to be solution temperatures of 70-85°C
at pH 5. Our results clearly show that electroless plating is
suitable for the fabrication of micromechanical stn.~ctures on
silicon.

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ภาพยนตร์นิกเกิลถึง 20 / ม. หนา ~ ได้รับการคัดเลือกวางลงบนพื้นผิวสัมผัสซิลิกอนในการชุบไฟฟ้ากระบวนการ หยาบของพื้นผิวซิลิกอนจะพบว่ามีความสำคัญสำหรับการยึดเกาะที่ดีของการชุบนิกเกิลเพื่อซิลิคอนตั้งต้น ปรับสภาพผิวที่เหมาะสมที่สุดสำหรับ electroles ~ ชุบมีหลายขนาดเล็ก (เช่นน้อยกว่า 1 พี ~ n) กัดหลุมและให้พื้นผิวที่เรียบหลังจากนิกเกิลชุบ ชุบที่เหมาะสมเงื่อนไขสำหรับพื้นผิวที่เรียบเนียนและการสะสมในทางปฏิบัติอัตรากำลังมุ่งมั่นที่จะแก้ปัญหาของอุณหภูมิที่70-85 องศาเซลเซียสที่pH 5. ผลของเราแสดงให้เห็นชัดเจนว่าการชุบไฟฟ้าเป็นที่เหมาะสมสำหรับการผลิตของ stn จิ๋วได้. ~ ctures ในซิลิกอน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

นิกเกิลฟิล์มถึง 20 / ~ M หนาได้รับเลือกฝากเงินในสัมผัสพื้นผิวซิลิกอน

กระบวนการชุบแบบไม่มีไฟฟ้า . roughening ของพื้นผิวซิลิกอน จะพบว่ามีการยึดเกาะที่ดี
วิกฤตของชุบนิกเกิลซิลิคอน
พื้นผิว ที่เหมาะสมที่สุดที่ผ่านพื้นผิวสำหรับ electroles ~
ชุบมีหลายขนาดเล็ก ( เช่น น้อยกว่า 1 P ~ n ) แกะสลักหลุมและ
ให้ผิวเรียบเนียนหลังการชุบนิกเกิล . ที่ชุบ
เงื่อนไขสำหรับพื้นผิวเรียบและอัตราการสะสม
ปฏิบัติมุ่งมั่นที่จะแก้ปัญหาอุณหภูมิ 70-85 ° C
ที่ pH 5 ผลของเราแสดงให้เห็นชัดเจนว่าคิวเวตต์คือ
เหมาะสำหรับการผลิตของ micromechanical STN ~

ctures บนซิลิคอน