NH3 exposure stressAfter NH3 exposu

NH3 exposure stress
After NH3 exposure stress for 24 h, SR of all experimental groups
is shown in Fig. 2. SR was lowest in the control group, which was
also significantly lower (P < 0.05) than in 2.0, 4.0, 6.0 and 8.0 g kg1
MOS-supplemented groups. Meanwhile, SR was the highest in
4.0 g kg1 MOS-supplemented group, but SR had no significant
difference between 4.0 g kg1 MOS-supplemented group and 2.0,
6.0, 8.0 g kg1 MOS-supplemented groups.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ความเครียดแสง NH3หลังจากความเครียดแสง NH3 ใน 24 h, SR ของกลุ่มทดลองทั้งหมดแสดงในรูป 2 นี้ SR เป็นต่ำสุดในกลุ่มควบคุม การนอกจากนี้ยังลด (P < 0.05) กว่า 2.0, 4.0, 6.0 และ 8.0 กรัมกก. 1กลุ่มเสริม MOS ในขณะเดียวกัน SR มากลุ่มเสริม MOS 4.0 กรัมกก. 1 แต่ SR ได้ไม่สำคัญความแตกต่างระหว่างกลุ่มเสริม MOS กก. 1 4.0 g และ 2.06.0, 8.0 กรัมกก. 1 MOS เสริมกลุ่ม

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ความเครียดการสัมผัส NH3
หลังจากความเครียดการสัมผัส NH3 เป็นเวลา 24 ชั่วโมง, อาร์ของกลุ่มทดลองทั้งหมด
จะถูกแสดงในรูป 2. SR ต่ำสุดในกลุ่มควบคุมซึ่ง
ยังต่ำกว่าอย่างมีนัยสำคัญ (P <0.05) มากกว่าใน 2.0, 4.0, 6.0 และ 8.0 กรัมต่อกิโลกรัม 1
กลุ่ม MOS-เสริม ขณะเดียวกันอาร์เป็นที่สูงที่สุดใน
4.0 กรัมต่อกิโลกรัม? กลุ่มที่ 1 MOS-เสริม แต่อาร์ไม่ได้มีนัยสำคัญ
แตกต่างระหว่าง 4.0 กรัมต่อกิโลกรัม 1 กลุ่ม MOS-เสริมและ 2.0,
6.0, 8.0 กรัมต่อกิโลกรัม 1 กลุ่ม MOS-เสริม