The ability of ALD deposited TiO2 s

The ability of ALD deposited TiO2 surface coatings to protect BOPP film against UV induced photodegradation was investigated.The coatings were produced from TDMAT and ozone precursors in a low-temperature ALD process having the process temperature (80 ◦C) clearly below the substrate’s melting point. The results showed that the 36 nm TiO2 layer as measured on silicon samples provided a moderate and the 67 nm layer significant UV protection for BOPP. It is also demonstrated that there is a significant difference in the thickness of films on BOPP compared to silicon because of an
extended nucleation period which needs to be taken into account when estimating the thickness. According to IR analysis, the 67 nm coating was able to largely prevent the formation of the main photodegradation products in BOPP after a 6-week UV exposure. DSC analysis showed that neither the UV treatment nor the TiO2 coating process affected the degree of crystallinity in BOPP. However,the melting behaviour of samples indicated that the TiO2 coating protected the BOPP film from UV degradation.According to the mechanical strength test, the protection provided by the TiO2 coatings was significant when compared to the uncoated samples but the mechanical properties of all of the samples were reduced to a greater or lesser extent. For better protection,it is possible to use higher coating thicknesses, lower band gap materials or multilayer coatings, but the suitability of these coatings in the large scale ALD coating processes for flexible substrates
should be investigated. In conclusion, further research is recommended in the area of UV protective ALD coatings to confirm the effectiveness of the coatings in the UV protection of flexible polymer films.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ความสามารถของ ALD ฝาก TiO2 เคลือบผิวเพื่อป้องกันฟิล์มบอปป์กับ UV เกิด photodegradation ถูกสอบสวนไม้แปรรูปถูกผลิตจาก precursors TDMAT และโอโซนในกระบวนการ ALD อุณหภูมิต่ำมีอุณหภูมิกระบวนการ (80 ◦C) ต่ำกว่าจุดหลอมเหลวของพื้นผิวชัดเจน ผลพบว่า ชั้นของ nm TiO2 36 วัดในตัวอย่างซิลิคอนให้ปานกลางและ 67 nm ชั้นสำคัญ UV ป้องกันสำหรับบอปป์ แต่ยังจะแสดงว่า มีความแตกต่างอย่างมีนัยสำคัญในความหนาของฟิล์มในบอปป์เมื่อเทียบกับซิลิกอนเนื่องจากมี
nucleation ขยายรอบระยะเวลาที่ต้องนำมาพิจารณาเมื่อประเมินความหนา ตามการวิเคราะห์ IR เคลือบ nm 67 ก็สามารถป้องกันการก่อตัวของผลิตภัณฑ์หลัก photodegradation ในบอปป์หลังจาก 6 สัปดาห์รังสีเป็นส่วนใหญ่ DSC วิเคราะห์พบว่า ไม่มีการรักษา UV หรือการเคลือบ TiO2 ผลระดับ crystallinity ในบอปป์ อย่างไรก็ตามพฤติกรรมการละลายของตัวอย่างระบุว่า เคลือบ TiO2 ป้องกันฟิล์มบอปป์จาก UV ลดประสิทธิภาพตามการทดสอบความแข็งแรงทางกล การป้องกันเคลือบ TiO2 มีอย่างมีนัยสำคัญเมื่อเปรียบเทียบกับตัวอย่างเคลือบ แต่คุณสมบัติทางกลของตัวอย่างทั้งหมดได้ลดลงไปมากกว่า หรือน้อยกว่าขอบเขต สำหรับการป้องกันที่ดีกว่าจำเป็นต้องใช้ความหนาของเคลือบสูง ต่ำแถบช่องว่างของวัสดุ หรือการเคลือบหลายชั้น แต่ความเหมาะสมของไม้แปรรูปเหล่านี้ในเคลือบ ALD ขนาดใหญ่ประมวลผลสำหรับพื้นผิวยืดหยุ่น
ควรถูกตรวจสอบ ในสรุป เพิ่มเติม งานวิจัยงานในเคลือบ ALD ป้องกัน UV เพื่อยืนยันประสิทธิผลของการเคลือบผิวในการป้องกัน UV ของฟิล์มพอลิเมอร์มีความยืดหยุ่น

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ความสามารถในการ ALD ฝากเคลือบผิว TiO2 เพื่อปกป้องฟิล์ม BOPP กับรังสียูวีสลายเกิดได้ investigated.The เคลือบถูกผลิตจาก TDMAT และโอโซนสารตั้งต้นในกระบวนการมรกตอุณหภูมิต่ำที่มีอุณหภูมิกระบวนการ (80 ◦C) อย่างชัดเจนด้านล่างจุดหลอมเหลวของสารตั้งต้น . ผลการศึกษาพบว่าชั้น TiO2 36 นาโนเมตรเป็นวัดตัวอย่างซิลิกอนที่มีให้ในระดับปานกลางและ 67 นาโนเมตรชั้นป้องกันรังสียูวีที่สำคัญสำหรับ BOPP นอกจากนี้ยังแสดงให้เห็นว่ามีความแตกต่างอย่างมีนัยสำคัญในความหนาของฟิล์มที่ BOPP เมื่อเทียบกับซิลิกอนเนื่องจาก
ระยะเวลาที่นิวเคลียสขยายที่จะต้องนำมาพิจารณาเมื่อการประมาณความหนา ตามการวิเคราะห์ IR, เคลือบ 67 นาโนเมตรก็สามารถที่จะส่วนใหญ่ป้องกันการก่อตัวของผลิตภัณฑ์หลักในการสลาย BOPP หลังจากการสัมผัสรังสียูวี 6 สัปดาห์ DSC วิเคราะห์แสดงให้เห็นว่าทั้งการรักษารังสียูวีหรือกระบวนการเคลือบ TiO2 ได้รับผลกระทบระดับของผลึกใน BOPP แต่พฤติกรรมการละลายของตัวอย่างชี้ให้เห็นว่าการเคลือบ TiO2 ป้องกันฟิล์ม BOPP จากรังสียูวี degradation.According ในการทดสอบความแข็งแรงทางกลการป้องกันที่มีให้โดยการเคลือบ TiO2 อย่างมีนัยสำคัญเมื่อเทียบกับกลุ่มตัวอย่างที่ไม่เคลือบผิว แต่สมบัติเชิงกลของทั้งหมดของ กลุ่มตัวอย่างลดลงในระดับที่มากหรือน้อย สำหรับการป้องกันที่ดีก็เป็นไปได้ที่จะใช้ความหนาสูงเคลือบวัสดุช่องว่างแถบที่ต่ำกว่าหรือเคลือบหลายชั้น แต่ความเหมาะสมของการเคลือบเหล่านี้ในระดับกระบวนการเคลือบมรกตขนาดใหญ่สำหรับพื้นผิวที่มีความยืดหยุ่น
ควรได้รับการตรวจสอบ สรุปได้ว่าการวิจัยต่อไปขอแนะนำในพื้นที่ของรังสียูวีเคลือบ ALD ป้องกันเพื่อยืนยันประสิทธิภาพของการเคลือบในการป้องกันรังสียูวีของภาพยนตร์ลิเมอร์ที่มีความยืดหยุ่น

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ความสามารถของ ald ฝากเคลือบผิว TiO2 เพื่อปกป้องฟิล์ม BOPP กับการใช้แสง UV ถูกสอบสวน เคลือบถูกผลิตจาก tdmat และโอโซนสารตั้งต้นในกระบวนการอุณหภูมิ ald มีกระบวนการที่อุณหภูมิ 80 ◦ C ) ชัดเจนด้านล่างของพื้นผิวจุดหลอมเหลวผลการศึกษาพบว่า 36 nm ) เลเยอร์เป็นวัดตัวอย่างซิลิคอนให้ปานกลาง และที่สำคัญป้องกัน UV 67 nm ชั้นสำหรับ BOPP . นอกจากนี้ยังพบว่า มีความแตกต่างในความหนาของฟิล์ม BOPP เมื่อเทียบกับบนซิลิคอน เนื่องจากการขยายขนาด
ระยะเวลาที่ต้องนำมาพิจารณาเมื่อคำนวณความหนาตามการวิเคราะห์ IR , 67 nm เคลือบได้โดยการป้องกันการก่อตัวของผลิตภัณฑ์หลักในการใช้แสงยูวีการ BOPP หลังจาก 6 สัปดาห์ . การวิเคราะห์ DSC พบว่าทั้ง UV รักษาหรือเคลือบ TiO2 กระบวนการส่งผลต่อระดับความเป็นผลึกในบอปป์ . อย่างไรก็ตามละลายพฤติกรรมตัวอย่างพบว่า TiO2 เคลือบป้องกันฟิล์ม BOPP จากการย่อยสลาย UV . จากการทดสอบความแข็งแรงเชิงกล การป้องกันโดยเคลือบ TiO2 อย่างมีนัยสำคัญทางสถิติเมื่อเปรียบเทียบกับตัวอย่างที่ไม่เคลือบผิวและสมบัติเชิงกลของตัวอย่างที่ถูกลดระดับมากหรือน้อย . สำหรับการป้องกันที่ดีกว่ามันเป็นไปได้ที่จะใช้เคลือบหนาขึ้น ลดช่องว่างแถบวัสดุหรือสารเคลือบหลายชั้น แต่ความเหมาะสมของผิวเคลือบเหล่านี้ในกระบวนการขนาดใหญ่เคลือบพื้นผิวมีความยืดหยุ่นสำหรับ ald
ควรตรวจสอบ สรุปการวิจัยเพิ่มเติมจะแนะนำในพื้นที่ของ UV ป้องกัน ald เคลือบ เพื่อยืนยันประสิทธิผลของการเคลือบในการป้องกันรังสียูวีของฟิล์มพอลิเมอร์ที่ยืดหยุ่น