The different composites were deposi

The different composites were deposited on thin film platinum electrodes (100 nm Pt/20 nm
Ni/20 nm Ti, 4.39 mm geometric area), defined on 3 mm ×3.5 mm silicon chips fabricated using standard microfabrication processes.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

คอมโพสิต different ถูกฝากบนหุงตบาง film แพลตินัม (100 nm Pt/20 nmNm Ni/20 ตี้ พื้นที่รูปทรงเรขาคณิต 4.39 mm), defined บน 3 มม.× 3.5 มม.ซิลิคอนชิหลังสร้างโดยใช้กระบวนการ microfabrication มาตรฐานการ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ดิฉฉคอมโพสิตต่างกันถูกวางลงบนสายบางขั้วทองคำ LM (100 นาโนเมตร Pt / 20 นาโนเมตร
Ni / 20 นาโนเมตร Ti, 4.39 มมพื้นที่เรขาคณิต) นิยามเมื่อวันที่ 3 มมมม× 3.5 ชิปซิลิกอนประดิษฐ์ชิ้นงานขนาดเล็กโดยใช้กระบวนการมาตรฐาน