Afterwards, the photoresist solutio

Afterwards, the photoresist solution of polymethylmethacrylate (PMMA) was spin-coated on a GaN substrate to form a ∼200 nm thick PMMA layer.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

หลังจากนั้น การแก้ปัญหาเพียงของ polymethylmethacrylate (PMMA) ถูกหมุนเคลือบบนพื้นผิวกันในรูปแบบที่ ∼200 nm PMMA ชั้นหนา

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

หลังจากนั้นการแก้ปัญหาไวแสงของ polymethylmethacrylate (PMMA) คือการสปินเคลือบบนพื้นผิวกานในรูปแบบนาโนเมตรชั้น PMMA ~200 หนา

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ภายหลัง ระบบโซลูชั่นของพอลิเมทิลเมทาคริเลต ( PMMA ) คือการหมุนเคลือบบนพื้นผิวกานรูป∼ 200 nm หนาประมาณชั้น