After electrochemical etching, the

After electrochemical etching, the porous silicon substrate was thoroughly rinsed with deionized water to eliminate the remaining

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

หลังจากแกะสลักไฟฟ้า พื้นผิวรูพรุนซิลิคอนถูกให้สะอาดล้าง ด้วยจุน้ำเพื่อกำจัดส่วนเหลือ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

หลังจากแกะสลักไฟฟ้า, พื้นผิวซิลิกอนที่มีรูพรุนได้รับการล้างให้สะอาดด้วยน้ำปราศจากไอออนเพื่อขจัดส่วนที่เหลือ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

หลังจากการกัดซิลิคอนรูพรุนของพื้นผิวทางเคมีไฟฟ้าคือให้ล้างด้วยน้ำคล้ายเนื้อเยื่อประสานจัดที่เหลือ