The bombardment process causes the

The bombardment process causes the removal, sputtering , of target atoms, which may then condense on a substrate as a thin film

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

การระดมยิงทำให้การเอาออก พ่น ของอะตอม เป้าหมายที่อาจบีบแล้วบนพื้นผิวเป็นฟิล์มบาง

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

กระบวนการการโจมตีทำให้เกิดการกำจัด, สปัตเตอร์ของอะตอมเป้าหมายซึ่งอาจรวมตัวบนพื้นผิวเป็นฟิล์มบาง ๆ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

กระบวนการโจมตีสาเหตุการสปัตเตอริงของอะตอมเป้าหมาย ซึ่งอาจจะกลั่นตัวบนพื้นผิวที่เป็นฟิล์มบาง ๆ