The experimental procedures includi

The experimental procedures including thin films deposition, characterizations and thermoelectric
properties measurement, and fabrication and testing a thermoelectric module are described as follows.
2.1. Thin films deposition
Fig 1 shows the schematic diagram of a bipolar pulsed-dc magnetron sputtering system used for thin
film preparations. Details of a system have been given elsewhere [8]. The depositions were carried out
under an argon atmosphere (Ar 99.999%, at the gas flow rate of 23.3±0.1 sccm and total pressure of 70
mTorr) using the p-Ca3Co4O9 and n-ZnAlO targets of 60 mm diameter and 3.0 mm thickness. The
substrates were Al2O3:clay ceramics (25.0×25.0×1.0 mm3
) placed at the distance of 5.0 cm above the
target without additional heating facility. The pulsed-dc power applied to the targets was operated at
approximately 17 kHz, with the sputtering on-time (−ton) of 20 μs, the reverse sputtering on-time (+ton) of
10 μs, and the pulse off-time (toff) of 14 μs. The negative voltage pulse/current at the target were 244±15
V/120 mA, and 600±15 V/120 mA for p-Ca3Co4O9 and n-ZnAlO targets, respectively. The positive
voltage pulse (+V) was set at 100±10 V for both targets. The deposition time was 60 min for each sample.
The optical emissions from plasma during sputter deposition of films were observed in the wavelength
range of 360-800 nm using a high resolution spectrometer (the getSpec-2048 spectrometer, Sentronic
GmbH). The spectral lines were indexed to the Atomic Spectra Database (ASD) of the National Institute
of Standards and Technology (NIST) [9].

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ขั้นตอนการทดลองรวมทั้งสะสมฟิล์มบาง characterizations และแบบเทอร์โมอิเล็กทริกส์คุณสมบัติ วัด และผลิต และการทดสอบโมดูลแบบเทอร์โมอิเล็กทริกส์จะอธิบายได้ดังนี้2.1. บางฟิล์มสะสมฟิก 1 แสดงไดอะแกรมแผนผังวงจรของ magnetron dc สูงไฟที่ไบโพลาร์ที่พ่นใช้สำหรับบางระบบการเตรียมฟิล์ม รายละเอียดของระบบได้รับอื่น ๆ [8] Depositions ที่ได้ดำเนินการภายใต้บรรยากาศอาร์กอน (Ar 99.999% อัตราการไหลแก๊สของ 23.3±0.1 sccm และผลรวมความดันของ 70mTorr) ใช้เป้าหมาย p Ca3Co4O9 และ n ZnAlO ของความหนา 3.0 มม.และเส้นผ่าศูนย์กลาง 60 mm ที่พื้นผิวถูกเคลือบ Al2O3:clay (45.00 × 25.0 × 1 0 mm3) อยู่ที่ระยะห่างของ 5.0 ซม.ด้านบนเป้าหมายไม่ มีความร้อนเพิ่มเติมสิ่งอำนวยความสะดวก พลังงานสูง dc ใช้กับเป้าหมายได้ดำเนินการที่ประมาณ 17 kHz กับการ sputtering เวลา (−ton) 20 μs การย้อน sputtering เวลา (+ตัน) ของ10 μs และหมุนปิดเวลา (toff) 14 μs ชีพจร/ปัจจุบันแรงดันไฟฟ้าลบที่เป้าหมายถูก 244±15V/120 mA และ 600±15 V/120 mA p Ca3Co4O9 และ n ZnAlO เป้าหมาย ตามลำดับ ในแง่บวกแรงดันชีพจร (+ V) ถูกตั้งค่าที่ 100±10 V สำหรับเป้าหมายทั้ง เวลาสะสมถูก 60 นาทีสำหรับแต่ละตัวอย่างปล่อยแสงจากพลาสมาระหว่าง sputter สะสมภาพยนตร์สุภัคความยาวคลื่นช่วง 360-800 nm โดยใช้สเปกโตรมิเตอร์ความละเอียดสูง (getSpec 2048 สเปกโตรมิเตอร์ SentronicGmbH). The spectral lines were indexed to the Atomic Spectra Database (ASD) of the National Instituteof Standards and Technology (NIST) [9].

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ขั้นตอนการทดลองรวมทั้งการสะสมฟิล์มบาง,
สมบัติและเทอร์โมวัดคุณสมบัติและการผลิตและการทดสอบโมดูลเทอร์โมมีรายละเอียดดังนี้.
2.1 ฟิล์มบางปลดออกจากรูปที่ 1 แสดงแผนภาพของชีพจร-dc ระบบสปัตเตอร์แมกสองขั้วที่ใช้สำหรับบางการเตรียมฟิล์ม รายละเอียดของระบบได้รับอื่น ๆ [8] depositions ได้ดำเนินการภายใต้บรรยากาศอาร์กอน(การ Ar 99.999% ในอัตราการไหลของก๊าซ 23.3 ± 0.1 SCCM และความดันรวม 70 mTorr) โดยใช้ P-Ca3Co4O9 และเป้าหมาย n-ZnAlO 60 มิลลิเมตรและความหนา 3.0 มม พื้นผิวเป็น Al2O3: เซรามิกดิน (25.0 × 25.0 × 1.0 mm3) อยู่ที่ระยะทางประมาณ 5.0 ซม. ข้างต้นเป้าหมายโดยไม่มีสิ่งอำนวยความสะดวกเพิ่มเติมร้อน พลังชีพจร-dc นำไปใช้กับเป้าหมายที่ได้รับการดำเนินการประมาณ 17 เฮิร์ทซ์, สปัตเตอร์กับเวลาบน (ตัน) 20 ไมโครวินาทีที่สปัตเตอร์กลับเวลา (+ ตัน) ของ 10 ไมโครวินาทีและชีพจรนอกเวลา (Toff) 14 ไมโครวินาที ชีพจรแรงดันไฟฟ้าในเชิงลบ / ปัจจุบันที่เป้าหมายเป็น 244 ± 15 V / 120 mA และ 600 ± 15 V / 120 mA สำหรับพี Ca3Co4O9 และ n-ZnAlO เป้าหมายตามลำดับ บวกแรงดันไฟฟ้า (+ V) ตั้งอยู่ที่ 100 ± 10 V สำหรับเป้าหมายทั้งสอง การสะสมเวลาเป็น 60 นาทีสำหรับแต่ละตัวอย่าง. การปล่อยแสงจากพลาสม่าในช่วงการสะสมปะทุของภาพยนตร์ถูกตั้งข้อสังเกตในความยาวคลื่นช่วง 360-800 นาโนเมตรโดยใช้สเปกโตรมิเตอร์ความละเอียดสูง (สเปกโตรมิเตอร์ getSpec-2048, Sentronic GmbH) เส้นสเปกตรัมถูกจัดทำดัชนีฐานข้อมูลปรมาณู Spectra (ASD) ของสถาบันมาตรฐานและเทคโนโลยี(NIST) [9]

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

การทดลองขั้นตอนรวมทั้งฟิล์มบาง , การศึกษาคุณสมบัติ และเทอร์โม
คุณสมบัติการวัดและการประกอบและทดสอบโมดูล เทอร์โม มีอธิบายดังต่อไปนี้
2.1 . ฟิล์มบางกอกก
1 แสดงแผนภาพขั้วแมกนีตรอนสปัตเตอร์ DC พัลส์ของระบบที่ใช้ในการเตรียมฟิล์ม

รายละเอียดของระบบได้รับที่อื่น ๆ [ 8 ]ที่ทดลอง
Depositions ภายใต้บรรยากาศอาร์กอน ( Ar 99.999 % ที่อัตราการไหลของแก๊สของ 23.3 ± 0.1 sccm และความดันรวม 70
mtorr ) และใช้ p-ca3co4o9 n-znalo เป้าหมาย 60 มม. ขนาดเส้นผ่าศูนย์กลางและความหนา 3.0 มม. พื้นผิว Al2O3 )
: เครื่องเคลือบดิน ( 60 × 60 × 1.0 มม.
) อยู่ที่ระยะทาง 5.0 ซม. เหนือ
เป้าหมายโดยไม่ต้องสถานที่ร้อนเพิ่มเติมPulsed ไฟ DC ใช้กับเป้าหมาย ดำเนินการที่
ประมาณ 17 กิโล กับเวลาในการสปัตเตอร์ ( −ตัน ) 20 μ s ย้อนกลับในเวลาทำงาน ( ตัน )
10 μ S , และชีพจรเวลาปิด ( คนชั้นสูง ) 14 μเอสพัลส์ไฟฟ้าลบในปัจจุบันที่เป้าหมายคือ 244 ± 15
v / 120 ม้า และ 600 ± 15 5 / 120 มาเพื่อ p-ca3co4o9 n-znalo และเป้าหมายตามลำดับ วก
พัลส์แรงดันไฟฟ้า ( V ) ตั้งไว้ที่ 100 ± 10 V ทั้ง 2 เป้าหมาย การสะสมเวลา 60 นาทีสำหรับแต่ละตัวอย่าง แสงปล่อยออกมาจากพลาสมาระหว่าง
ละล่ำละลักคำให้การของพยานของภาพยนตร์ที่พบในช่วงของความยาวคลื่น
360-800 nm ใช้กล้องความละเอียดสูง ( getspec-2048 สเปกโตรมิเตอร์ sentronic
GmbH )เส้นสเปคตรัม คือดัชนีในฐานข้อมูลสเปกตรัมของอะตอม ( ASD ) ของสถาบันมาตรฐานและเทคโนโลยี ( NIST
) [ 9 ]