However, theoptimized sensor gave e

However, the
optimized sensor gave excellent performance for 100–1000 ppmv
H2; percentile resistance changes were 4.5, 5.5 and 6.5% at 100, 500
and 1000 ppmv, respectively, as in Fig. 5(c). The response and
recovery times were 55–70 and 80–120 s, respectively.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

อย่างไรก็ตาม การเซนเซอร์ที่ดีที่สุดให้ประสิทธิภาพที่ยอดเยี่ยมสำหรับ 100-1000 ppmvH2 เปลี่ยนแปลงความต้านทานการแกะสลักได้ 4.5, 5.5 และ 6.5% ที่ 100, 500และ 1000 ppmv ตามลำดับ เช่นเดียวกับในรูป 5(c) การตอบสนอง และเวลากู้คืนได้ 55-70 และ 80 – 120 s ตามลำดับ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

อย่างไรก็ตามการ
เซ็นเซอร์ที่ดีที่สุดให้ประสิทธิภาพที่ดีเยี่ยมสำหรับ 100-1000 ppmv
H2; การเปลี่ยนแปลงความต้านทานที่ร้อยละ 4.5, 5.5 และ 6.5% ที่ 100, 500
และ 1,000 ppmv ตามลำดับเช่นเดียวกับในรูป 5 (c) การตอบสนองและ
การกู้คืนครั้งที่ 55-70 และ 80-120 s ตามลำดับ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

อย่างไรก็ตามเซ็นเซอร์ปรับให้ประสิทธิภาพที่ดีเยี่ยมสำหรับ 100 – 1 , 000 ppmvH2 ; การเปลี่ยนแปลงความต้านทานค่าคือ 4.5 , 5.5 และ 6.5 % ที่ 100 , 500และ 1000 ppmv ตามลำดับ ในรูปที่ 5 ( C ) การตอบสนองและเวลากู้คืน จำนวน 55 – 70 และ 80 - 120 วินาที ตามลำดับ