illustrates how the applied potenti

illustrates how the applied potential (Eap ranging from
0.4 V to +0.2 V) affected in the photoelectrochemical CO2 reduction
at the Cu/Cu2O electrode in 0.1 mol L1 Na2CO3/NaHCO3 buffer
solution, pH 9.0, saturated with CO2, under UV–vis radiation

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

แสดงวิธีใช้ศักยภาพ (Eap ตั้งแต่0.4 V เพื่อ +0.2 V) ได้รับผลกระทบใน photoelectrochemical การลด CO2ที่อิเล็กโทรด Cu/Cu2O ใน 0.1 โมล Na2CO3 1 L/NaHCO3 บัฟเฟอร์โซลูชั่น pH 9.0 อิ่มตัวกับ CO2 ภายใต้รังสี UV – vis

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

แสดงให้เห็นว่ามีศักยภาพนำมาใช้ (EAP ตั้งแต่
? 0.4 V ถึง 0.2 V) ได้รับผลกระทบในการลด CO2 photoelectrochemical
ที่ลูกบาศ์ก / อิเลคโทร Cu2O ใน 0.1 mol L 1 Na2CO3 / NaHCO3 บัฟเฟอร์
วิธีการแก้ปัญหาค่า pH 9.0 อิ่มตัวกับ CO2 ภายใต้แสงยูวี -vis รังสี

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

แสดงให้เห็นถึงวิธีการประยุกต์ที่มีศักยภาพ ( EAP ตั้งแต่
 0.4 V 0.2 V ) ผลกระทบใน photoelectrochemical CO2 ลด
ที่ Cu / cu2o ขั้วไฟฟ้าใน 0.1 โมล / l  1 Na2CO3 โซเดียมไบคาร์บอเนตบัฟเฟอร์ pH 9.0
สารละลายอิ่มตัว CO2 ภายใต้รังสี UV –ธนาคารแห่งประเทศไทย