During the last several decades, co

During the last several decades, coating technologies have garnered considerable attention, mainly due to their functional advantages over bulk materials, processing flexibility, and cost considerations [157]. Thin film coatings may be deposited using physical methods or chemical methods. The chemical methods can be split according to a gas phase deposition or a liquid phase deposition. These processes are summarized in Figure 4.1, where CVD and Atomic Layer Epitaxy (ALE) are the gas processes.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ในช่วงหลายทศวรรษ เทคโนโลยีเคลือบได้รวบรวมความสนใจมาก ส่วนใหญ่เนื่องจากข้อดีของพวกเขาทำงานผ่านจำนวนมากวัสดุ ความยืดหยุ่น การประมวลผล และต้นทุนพิจารณา [157] เคลือบฟิล์มบางอาจฝากเงินโดยใช้วิธีการทางกายภาพหรือวิธีทางเคมี วิธีทางเคมีสามารถแบ่งตามการสะสมระยะก๊าซหรือสะสมสภาพคล่องระยะ กระบวนการเหล่านี้สามารถสรุปในรูปที่ 4.1 ที่ผิว CVD และอะตอมชั้น Epitaxy (เบียร์) เป็นกระบวนการที่ก๊าซ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ในช่วงหลายทศวรรษที่ผ่านมาเทคโนโลยีการเคลือบผิวได้รับความสนใจเป็นอย่างมากเนื่องจากการทำงานของพวกเขาได้เปรียบกว่าวัสดุที่เป็นกลุ่มมีความยืดหยุ่นในการประมวลผลและพิจารณาค่าใช้จ่าย [157] การเคลือบฟิล์มบางอาจจะฝากโดยใช้วิธีการทางกายภาพหรือวิธีการทางเคมี วิธีการทางเคมีสามารถแบ่งตามการสะสมก๊าซหรือการสะสมของเหลว กระบวนการเหล่านี้มีรายละเอียดในรูปที่ 4.1 ซึ่ง CVD และอะตอมชั้น epitaxy (เบียร์) เป็นกระบวนการก๊าซ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ในช่วงหลายทศวรรษที่ผ่านมา เทคโนโลยีการเคลือบผิวมี garnered ความสนใจมากส่วนใหญ่เนื่องจากข้อได้เปรียบการทำงานของพวกเขามากกว่าวัสดุขนาดใหญ่การประมวลผลความยืดหยุ่นและต้นทุนพิจารณา [ 157 ] การเคลือบฟิล์มบางอาจจะฝากด้วยวิธีทางกายภาพ หรือวิธีทางเคมี โดยวิธีการทางเคมีสามารถแบ่งตามระยะก๊าซสะสมหรือแบบเฟสของเหลวกระบวนการเหล่านี้จะสรุปได้ในรูปที่ 4.1 ที่ CVD และสร้างชั้นอะตอม ( เบียร์ ) เป็นก๊าซกระบวน