The effect of growth temperature on the UV-C sensitivity of E. coli DH การแปล - The effect of growth temperature on the UV-C sensitivity of E. coli DH ไทย วิธีการพูด

The effect of growth temperature on

The effect of growth temperature on the UV-C sensitivity of E. coli DH5a and L. plantarum BFE 5092 in QSRS is presented in Fig. 2. After incubating E. coli DH5a below the optimum growth temperature of 37 C, cells were more resistant to UV-C at subsequent treatments, which indicates a cross-protecting effect of the cold response and UV-C light in E. coli DH5a (Fig. 2a). The higher growth temperature of 45 C on the other hand led to a synergistic effect between the parameters of the temperature and UV-C irradiation. A higher reduction rate of E. coli DH5a was observed for cells grown at higher temperature when compared to cells grown at 37 C. The effect of growth temperature on the inactivation efficiency of E. coli DH5a may be explained by the differences in cytoplasmic membrane fluidity, which has an essential role in DNA
excision repair. However, no considerable difference in UV-C sensitivity could be observed for L. plantarum BFE 5092 incubated at different temperatures (Fig. 2b)
(Chung et al., 2006; Kolter et al., 1993). Bucheli-Witschel et al.
(2010) reported a dependence of growth rate on UV-C sensitivity
of E. coli K12. Therefore, in batch cultures, the UV-C resistance of
E. coli K12 decreases during the mid-exponential phase and reaches
a maximum resistance just before cells enter the stationary phase
0/5000
จาก: -
เป็น: -
ผลลัพธ์ (ไทย) 1: [สำเนา]
คัดลอก!
มีการนำเสนอผลของการเจริญเติบโตอุณหภูมิความไว UV-C ของ DH5a E. coli และ L. plantarum BFE 5092 ใน QSRS ใน Fig. 2 หลังจาก incubating E. coli DH5a ด้านล่างอุณหภูมิเติบโตสูงสุดของ 37 C เซลล์ได้มากทนต่อ UV-C ที่ภายหลังการรักษา ซึ่งบ่งชี้ว่า มีผลป้องกันข้ามตอบเย็นและแสง UV-C ใน E. coli DH5a (Fig. 2a) เจริญเติบโตอุณหภูมิสูงของ 45 C คงนำไปสู่ผลพลังระหว่างพารามิเตอร์ของอุณหภูมิและวิธีการฉายรังสี UV-C อัตราลดสูง DH5a E. coli ถูกสังเกตสำหรับเซลล์ที่เติบโตที่อุณหภูมิสูงขึ้นเมื่อเทียบกับเซลล์ที่เติบโตที่ 37 เซลเซียส ผลของอุณหภูมิการเจริญเติบโตประสิทธิภาพการยกเลิกการเรียก DH5a E. coli ที่อาจอธิบายความต่างของเมมเบรน cytoplasmic ไหล ซึ่งมีส่วนสำคัญในดีเอ็นเอตอนการผ่าตัดซ่อมแซม อย่างไรก็ตาม สามารถสังเกตความแตกต่างไม่มากความไว UV-C สำหรับ L. plantarum BFE 5092 incubated ที่อุณหภูมิแตกต่างกัน (Fig. 2b)(Chung et al., 2006 Kolter et al., 1993) Bucheli-Witschel et al(2010) รายงานอาศัยของอัตราการเติบโตในความไวของ UV-Cของ E. coli K12 ดังนั้น ในชุดวัฒนธรรม ความต้านทาน UV-C ของE. coli K12 ลดระยะกลางเนน และมาถึงความต้านทานสูงสุดก่อนเซลล์ป้อนระยะเครื่องเขียน
การแปล กรุณารอสักครู่..
ผลลัพธ์ (ไทย) 2:[สำเนา]
คัดลอก!
ผลของอุณหภูมิในการเจริญเติบโตไว UV-C ของเชื้อ E. coli DH5a และ L. plantarum BFE 5092 ใน QSRS จะนำเสนอในรูป 2. หลังจากบ่มเชื้อ E. coli DH5a ด้านล่างอุณหภูมิที่เหมาะสมในการเจริญเติบโต 37 องศาเซลเซียสเซลล์มีความทนต่อรังสี UV-C ที่การรักษาที่ตามมาซึ่งบ่งชี้ผลกระทบข้ามการปกป้องของการตอบสนองที่หนาวเย็นและแสง UV-C ในเชื้อ E. coli DH5a (รูป. 2a) อุณหภูมิที่สูงขึ้นของการเจริญเติบโต 45 องศาเซลเซียสในมืออื่น ๆ นำไปสู่การทำงานร่วมกันระหว่างผลพารามิเตอร์ของอุณหภูมิและการฉายรังสียูวีซี อัตราการลดลงที่สูงขึ้นของเชื้อ E. coli DH5a พบว่าเซลล์ที่ปลูกที่อุณหภูมิสูงขึ้นเมื่อเทียบกับการเจริญเติบโตของเซลล์ที่ 37 องศาเซลเซียส ผลของอุณหภูมิที่มีต่อประสิทธิภาพการเจริญเติบโตของการใช้งานของอีโคไล DH5a อาจจะอธิบายได้ด้วยความแตกต่างในการไหลเยื่อหุ้มนิวเคลียสซึ่งมีบทบาทสำคัญใน DNA
ซ่อมแซมตัดตอน แต่ไม่แตกต่างกันมากในความไว UV-C จะได้รับการตั้งข้อสังเกตสำหรับ L. plantarum BFE 5092 บ่มที่อุณหภูมิที่แตกต่างกัน (รูปที่ 2b.)
(Chung et al, 2006;.. Kolter, et al, 1993) Bucheli-Witschel et al.
(2010)
รายงานการพึ่งพาอาศัยกันของอัตราการเจริญเติบโตกับความไวยูวีซีอีK12 coli ดังนั้นในวัฒนธรรมชุดความต้านทานรังสี UV-C
ของอี coli K12
ลดลงในช่วงกลางและชี้แจงถึงความต้านทานสูงสุดก่อนที่จะเข้าสู่เซลล์เฟส
การแปล กรุณารอสักครู่..
ผลลัพธ์ (ไทย) 3:[สำเนา]
คัดลอก!
ผลของอุณหภูมิต่อความเจริญของ Escherichia coli และรังสียูวี ซี dh5a L . plantarum bfe ด่วนใน qsrs ที่แสดงในรูปที่ 2 หลังจากเพาะเชื้อ E . coli dh5a ด้านล่างของอุณหภูมิที่ 37  C เซลล์มีการทนต่อรังสียูวี ซีในการรักษาตามมา ซึ่งบ่งชี้ว่า ข้ามป้องกันผลของการตอบสนองเย็นและรังสียูวี ซีไฟใน E . coli dh5a ( รูปที่ 2A )ที่สูงขึ้นของอุณหภูมิ 45  C บนมืออื่น ๆที่นำไปสู่ผลร่วมกันระหว่างค่าของอุณหภูมิ และการฉายรังสียูวี ซี . สูงกว่าอัตราการลดลงของเชื้อ E . coli dh5a พบว่าเซลล์ที่ปลูกที่อุณหภูมิที่สูงกว่าเมื่อเทียบกับเซลล์ที่ปลูกที่ 37  C . ผลของอุณหภูมิต่อการยับยั้งการเจริญเติบโตประสิทธิภาพ Edh5a อาจอธิบายได้จากความแตกต่างในข้อสรุปนี้ เมมเบรน ซึ่งมีบทบาทสำคัญในการขับไล่ซ่อมแซมดีเอ็นเอ

แต่ไม่มีความแตกต่างมากในรังสียูวี ซีไวอาจจะสังเกตสำหรับ L . plantarum bfe ด่วน บ่มที่อุณหภูมิต่างกัน ( รูปที่ 2B )
( Chung et al . , 2006 ; kolter et al . , 1993 ) bucheli witschel et al .
( 2553 ) รายงานการอัตราการเจริญเติบโตต่อรังสียูวี ซีไว
ของ E . coli K12 . ดังนั้นในวัฒนธรรมชุด , รังสียูวี ซี ความต้านทานของ
E . coli K12 ลดลงในช่วงกลางถึงระยะ exponential และต้านทานเซลล์
สูงสุดก่อนเข้าสู่ระยะ stationary
การแปล กรุณารอสักครู่..
 
ภาษาอื่น ๆ
การสนับสนุนเครื่องมือแปลภาษา: กรีก, กันนาดา, กาลิเชียน, คลิงออน, คอร์สิกา, คาซัค, คาตาลัน, คินยารวันดา, คีร์กิซ, คุชราต, จอร์เจีย, จีน, จีนดั้งเดิม, ชวา, ชิเชวา, ซามัว, ซีบัวโน, ซุนดา, ซูลู, ญี่ปุ่น, ดัตช์, ตรวจหาภาษา, ตุรกี, ทมิฬ, ทาจิก, ทาทาร์, นอร์เวย์, บอสเนีย, บัลแกเรีย, บาสก์, ปัญจาป, ฝรั่งเศส, พาชตู, ฟริเชียน, ฟินแลนด์, ฟิลิปปินส์, ภาษาอินโดนีเซี, มองโกเลีย, มัลทีส, มาซีโดเนีย, มาราฐี, มาลากาซี, มาลายาลัม, มาเลย์, ม้ง, ยิดดิช, ยูเครน, รัสเซีย, ละติน, ลักเซมเบิร์ก, ลัตเวีย, ลาว, ลิทัวเนีย, สวาฮิลี, สวีเดน, สิงหล, สินธี, สเปน, สโลวัก, สโลวีเนีย, อังกฤษ, อัมฮาริก, อาร์เซอร์ไบจัน, อาร์เมเนีย, อาหรับ, อิกโบ, อิตาลี, อุยกูร์, อุสเบกิสถาน, อูรดู, ฮังการี, ฮัวซา, ฮาวาย, ฮินดี, ฮีบรู, เกลิกสกอต, เกาหลี, เขมร, เคิร์ด, เช็ก, เซอร์เบียน, เซโซโท, เดนมาร์ก, เตลูกู, เติร์กเมน, เนปาล, เบงกอล, เบลารุส, เปอร์เซีย, เมารี, เมียนมา (พม่า), เยอรมัน, เวลส์, เวียดนาม, เอสเปอแรนโต, เอสโทเนีย, เฮติครีโอล, แอฟริกา, แอลเบเนีย, โคซา, โครเอเชีย, โชนา, โซมาลี, โปรตุเกส, โปแลนด์, โยรูบา, โรมาเนีย, โอเดีย (โอริยา), ไทย, ไอซ์แลนด์, ไอร์แลนด์, การแปลภาษา.

Copyright ©2025 I Love Translation. All reserved.

E-mail: