This level of energyis too high for

This level of energy
is too high for certain applications because it could lead to
excessive heat load on the substrate
such as polymers, or to
ion damage of crystalline materials, when the ion energy is
greater than the displacement energy
the latter is typically 25–35 eV.4 These sources are not acceptable in applications
where oxide stoichiometry needs to be controlled without ion
damage and physical sputtering.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ระดับของพลังงานนี้
จะสูงเกินไปสำหรับโปรแกรมประยุกต์บางโปรแกรมได้เนื่องจากอาจทำ
โหลดความร้อนที่มากเกินไปบนพื้นผิว เช่นโพลิเมอร์ หรือการ
หายวัสดุผลึก เมื่อพลังงานไอออนเป็นไอออน
มากกว่าพลังงานปริมาณกระบอกสูบหลังจะ 25 – 35 eV .4 แหล่งเหล่านี้ไม่เป็นที่ยอมรับในการใช้งาน
ที่ต้องควบคุม โดยไอออน stoichiometry ออกไซด์
ความเสียหายและพ่นจริง

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ระดับของพลังงานนี้
สูงเกินไปสำหรับการใช้งานบางอย่างเพราะมันอาจนำไปสู่
​​ภาระความร้อนบนพื้นผิวมากเกินไปหรือไม่เช่นโพลีเมอ ?, หรือ
ไอออนความเสียหายของวัสดุผลึกเมื่อพลังงานไอออนเป็น
มากกว่าพลังงานเคลื่อนที่? หลังเป็นปกติ 25-35 eV? .4 แหล่งข้อมูลเหล่านี้ไม่เป็นที่ยอมรับในการใช้งาน
ที่ออกไซด์ปริมาณสัมพันธ์ต้องมีการควบคุมโดยไม่ต้องไอออน
ความเสียหายทางกายภาพและสปัตเตอร์

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ระดับของพลังงาน
นี้สูงเกินไปสำหรับการใช้งานบางอย่างเพราะอาจนำไปสู่
โหลดความร้อนที่มากเกินไปบนพื้นผิว
เช่นพอลิเมอร์  หรือความเสียหายของวัสดุผลึก
ไอออน เมื่อไอออนพลังงาน
มากกว่าการเคลื่อนที่พลังงาน
หลังมักจะ 25 – 35 EV  4 แหล่งข้อมูลเหล่านี้ ไม่เป็นที่ยอมรับในการใช้งาน
ที่ออกไซด์ปริมาณสัมพันธ์ต้องถูกควบคุมโดยไอออน
ความเสียหายทางกายภาพและส .