3.4.3. UV/O3 treatment
As show in Fig. 5, UV/O3 treatment showed the highest degradation efficiencies for all the four antibiotics. Removal efficiencies were in the range of 85–99% after 5 min, while they achieved over 99% after 10 min. Reaction rates during UV/O3 process were faster than those during ozonation, especially in the first 10 min. The trend was extremely obvious for the degradation of NOR.
UV/O3 treatment may involve three processes: UV photolysis, direct ozone oxidation, and indirect ozone oxidation. In our study, UV photolysis and ozonation were investigated individually. Results demonstrated that UV254 photolysis was only effective in degrading NOR among the four antibiotics, while ozonation was highly effective in degrading OFL, AZI and ROX, but less effective in degrading NOR. During UV/O3 treatment, a synergetic effect between O3 and UV irradiation, not merely an addictive effect, was observed in degradation of the selected antibiotics, which implied that indirect ozone oxidation was involved in the reaction. This was testified by the results of EPR spin trapping experiments. In the EPR spectrum of UV/O3 process, a remarkable four-line signal was monitored with hyperfine splitting constants aN = aH = 1.488 mT and g = 2.0032, which are representatives of DMPO–radical dotOH adducts [42]. The result indicated that hydroxyl radicals were produced as reactive species during the treatment of antibiotics by UV/O3 process.
Known as a strong oxidizing agent, hydroxyl radicals could react very fast with a large number of moieties. Some ozone-refractory pharmaceuticals could be degraded by radical dotOH during ozonation of municipal wastewater effluents [43]. It was reported that the quinolone ring of fluoroquinolones could only be oxidized by radical dotOH during ozonation process [38]. In the research of ozonation mechanism of ROX, Radjenović et al. found that several abundant ozonation products were generated due to the radical dotOH attack on some moieties, such as the cleavage of the cladinose moiety and the attack on C-atom of the double bond; length as m-dashNsingle bondOsingle bondCH2single bondOsingle bond chain (see Fig. 1) [44]. In addition, the second-order rate constants (kradical dotOH, app) of the reaction of radical dotOH with AZI and ROX were 2.9 × 109 and 5.4 × 109 M−1 s−1 at pH 7 [37], which were much higher than those of ozone with them (shown previously).
To sum up, UV/O3 process showed the best effectiveness in removing antibiotics in NF concentrate. UV irradiation combined with ozone enhanced the effective utilization of ozone. To further explore the feasibility and efficiency of ozone-based processes, NF concentrate of real secondary effluent was used as feed in AOPs experiments.
3.4.3. UV/O3 treatmentAs show in Fig. 5, UV/O3 treatment showed the highest degradation efficiencies for all the four antibiotics. Removal efficiencies were in the range of 85–99% after 5 min, while they achieved over 99% after 10 min. Reaction rates during UV/O3 process were faster than those during ozonation, especially in the first 10 min. The trend was extremely obvious for the degradation of NOR.UV/O3 treatment may involve three processes: UV photolysis, direct ozone oxidation, and indirect ozone oxidation. In our study, UV photolysis and ozonation were investigated individually. Results demonstrated that UV254 photolysis was only effective in degrading NOR among the four antibiotics, while ozonation was highly effective in degrading OFL, AZI and ROX, but less effective in degrading NOR. During UV/O3 treatment, a synergetic effect between O3 and UV irradiation, not merely an addictive effect, was observed in degradation of the selected antibiotics, which implied that indirect ozone oxidation was involved in the reaction. This was testified by the results of EPR spin trapping experiments. In the EPR spectrum of UV/O3 process, a remarkable four-line signal was monitored with hyperfine splitting constants aN = aH = 1.488 mT and g = 2.0032, which are representatives of DMPO–radical dotOH adducts [42]. The result indicated that hydroxyl radicals were produced as reactive species during the treatment of antibiotics by UV/O3 process.Known as a strong oxidizing agent, hydroxyl radicals could react very fast with a large number of moieties. Some ozone-refractory pharmaceuticals could be degraded by radical dotOH during ozonation of municipal wastewater effluents [43]. It was reported that the quinolone ring of fluoroquinolones could only be oxidized by radical dotOH during ozonation process [38]. In the research of ozonation mechanism of ROX, Radjenović et al. found that several abundant ozonation products were generated due to the radical dotOH attack on some moieties, such as the cleavage of the cladinose moiety and the attack on C-atom of the double bond; length as m-dashNsingle bondOsingle bondCH2single bondOsingle bond chain (see Fig. 1) [44]. In addition, the second-order rate constants (kradical dotOH, app) of the reaction of radical dotOH with AZI and ROX were 2.9 × 109 and 5.4 × 109 M−1 s−1 at pH 7 [37], which were much higher than those of ozone with them (shown previously).To sum up, UV/O3 process showed the best effectiveness in removing antibiotics in NF concentrate. UV irradiation combined with ozone enhanced the effective utilization of ozone. To further explore the feasibility and efficiency of ozone-based processes, NF concentrate of real secondary effluent was used as feed in AOPs experiments.
การแปล กรุณารอสักครู่..

3.4.3 UV / O3 การรักษา
ในขณะที่การแสดงในรูปที่ 5, UV / O3 การรักษาพบว่ามีประสิทธิภาพในการย่อยสลายสูงสุดสำหรับทุกสี่ยาปฏิชีวนะ ประสิทธิภาพการกำจัดอยู่ในช่วง 85-99% หลังจาก 5 นาทีขณะที่พวกเขาประสบความสำเร็จกว่า 99% หลังจาก 10 นาที อัตราการเกิดปฏิกิริยาระหว่างขั้นตอน UV / O3 ได้เร็วกว่าผู้ที่อยู่ในระหว่างการเติมโอโซนโดยเฉพาะอย่างยิ่งในครั้งแรก 10 นาที แนวโน้มที่เห็นได้ชัดมากสำหรับการย่อยสลายของ NOR. ยูวี / รักษา O3 อาจเกี่ยวข้องกับสามกระบวนการ: photolysis ยูวีออกซิเดชั่โอโซนโดยตรงและทางอ้อมออกซิเดชั่โอโซน ในการศึกษาของเรา photolysis รังสียูวีและโอโซนถูกตรวจสอบเป็นรายบุคคล ผลแสดงให้เห็นว่า photolysis UV254 เป็นเพียงมีประสิทธิภาพในการย่อยสลาย NOR ในหมู่สี่ยาปฏิชีวนะในขณะที่โอโซนมีประสิทธิภาพสูงในการย่อยสลาย OFL, AZI และ ROX แต่มีประสิทธิภาพน้อยลงในการย่อยสลาย NOR ในระหว่างการรักษา UV / O3, ผลกระทบถกระหว่าง O3 และการฉายรังสียูวีไม่ได้เป็นเพียงผลกระทบเสพติดพบว่าในการย่อยสลายของยาปฏิชีวนะที่เลือกซึ่งส่อให้เห็นว่าออกซิเดชั่โอโซนทางอ้อมที่มีส่วนเกี่ยวข้องในการทำปฏิกิริยา นี้ได้รับการเบิกความโดยผลของการหมุนทดลองดัก EPR ในสเปกตรัม EPR ของกระบวนการ UV / O3, โดดเด่นสัญญาณสี่สายคือการตรวจสอบที่มีค่าคงที่แยก hyperfine aN = aH = 1.488 MT และกรัม = 2.0032 ซึ่งเป็นตัวแทนของ adducts dotOH DMPO รุนแรง [42] ผลการวิจัยพบว่าอนุมูลไฮดรอกมีการผลิตเป็นสายพันธุ์ที่มีปฏิกิริยาในระหว่างการรักษาของยาปฏิชีวนะโดยกระบวนการ UV / O3. เป็นที่รู้จักในฐานะตัวแทนออกซิไดซ์ที่แข็งแกร่งอนุมูลไฮดรอกสามารถตอบสนองได้อย่างรวดเร็วมากที่มีจำนวนมากของ moieties บางยาโอโซนทนไฟอาจจะสลายตัวโดย dotOH รุนแรงในระหว่างการเติมโอโซนน้ำทิ้งน้ำเสียของเทศบาล [43] มีรายงานว่าแหวน Quinolone ของ fluoroquinolones เท่านั้นที่จะได้ออกซิไดซ์โดย dotOH รุนแรงในระหว่างกระบวนการโอโซน [38] ในงานวิจัยของกลไกของโอโซน ROX, Radjenovićและคณะ พบว่าผลิตภัณฑ์โอโซนมากมายหลายคนถูกสร้างขึ้นเนื่องจากการโจมตี dotOH รุนแรงใน moieties บางอย่างเช่นความแตกแยกของครึ่ง cladinose และการโจมตีใน C-อะตอมของพันธะคู่; ความยาว M-dashNsingle bondOsingle bondCH2single bondOsingle โซ่พันธบัตร (ดูรูปที่ 1). [44] นอกจากนี้ยังมีค่าคงที่อัตราการสั่งซื้อที่สอง (kradical dotOH, แอพพลิเค) ของปฏิกิริยาของ dotOH รุนแรงกับ AZI และ ROX เป็น 2.9 × 109 และ 5.4 × 109 M-1 s-1 ที่ pH 7 [37] ซึ่งเป็นที่สูงขึ้นมาก กว่าของโอโซนกับพวกเขา (แสดงก่อนหน้านี้). เพื่อสรุป UV / กระบวนการ O3 แสดงให้เห็นประสิทธิภาพที่ดีที่สุดในการกำจัดยาปฏิชีวนะในสมาธิ NF การฉายรังสียูวีรวมกับโอโซนที่เพิ่มขึ้นการใช้ที่มีประสิทธิภาพของโอโซน เพื่อไปสำรวจความเป็นไปได้และมีประสิทธิภาพของกระบวนการโอโซนตามเข้มข้น NF ของน้ำทิ้งที่สองจริงถูกนำมาใช้เป็นอาหารในการทดลองซึ่ง ได้แก่
การแปล กรุณารอสักครู่..
