This nanoimprint module is primaril

This nanoimprint module is primarily intended for a research-and-development environment or for low-volume production. It uses a UV-curable process with a double layer of spin-coated resists.3 The mold is based on a standard 5in mask-blank platform and the field size is 1in(×)1 in. Gas pressure is applied to the back of the wafer to make the imprint pressure uniform, and a vacuum applied between the mask and the substrate eliminates air trapping.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

โมดูล nanoimprint นี้มีวัตถุประสงค์หลัก สำหรับการวิจัย และพัฒนาสภาพแวดล้อม หรือปริมาณการผลิต ใช้กระบวนการ UV-รักษาชั้นสองของ resists.3 หมุนเคลือบแม่พิมพ์ตามมาตรฐาน 5 นิ้วแพลตฟอร์มรูปแบบว่างเปล่าและขนาดเขตข้อมูลเป็น 1 ใน (×) 1 ในนั้น ใช้ความดันก๊าซกับด้านหลังของแผ่นเวเฟอร์จะทำให้ความดันสำนักพิมพ์เหมือนกัน และดักอากาศขจัดสูญญากาศใช้ระหว่างหน้ากากและพื้นผิว

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

โมดูล nanoimprint นี้มีวัตถุประสงค์หลักสำหรับสภาพแวดล้อมการวิจัยและการพัฒนาหรือการผลิตในปริมาณต่ำ มันใช้กระบวนการ UV-รักษาได้ด้วยสองชั้นของการหมุนเคลือบ resists.3 แม่พิมพ์จะขึ้นอยู่กับมาตรฐาน 5in แพลตฟอร์มหน้ากากว่างเปล่าและขนาดสนามถูก 1in (×) 1. ความดันแก๊สถูกนำไปใช้ด้านหลังของ เวเฟอร์ที่จะทำให้ความดันสม่ำเสมอประทับและสูญญากาศใช้ระหว่างหน้ากากและพื้นผิวช่วยขจัดดักอากาศ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

nanoimprint โมดูลนี้เป็นวัตถุประสงค์หลักสำหรับการวิจัยและพัฒนาสิ่งแวดล้อม หรือปริมาณการผลิตต่ำ มันใช้ UV curable กระบวนการที่มีสองชั้นของการหมุนเคลือบต่อต้าน 3 แม่พิมพ์จะขึ้นอยู่กับมาตรฐานหน้ากาก 5in ว่างแพลตฟอร์มและฟิลด์ขนาด 1in ( × ) 1 ใน แรงดันแก๊สที่ใช้กับด้านหลังของเวเฟอร์เพื่อให้ความดันลงเครื่องแบบและสูญญากาศใช้ระหว่างหน้ากากและพื้นผิวขจัดดักอากาศ