The main feature of HiPIMS is the c

The main feature of HiPIMS is the combination of sputtering from standard magnetrons using pulsed plasma discharges, where the aim is to generate a highly ionized
plasma with large quantities of ionized sputtered material.The high degree of ionization of the sputtered species has been shown to lead to the growth of smooth and dense
elemental films as well as reactively deposited compound films and enable control over their phase composition,microstructure,as well as mechanical and optical properties. It has also been reported to be beneficial in terms of improving film adhesion,enabling
deposition of uniform films on complex-shaped substrates,and having a decreased deposition temperature. In summary, it is clear that the perspective of having advantages like the ones mentioned above is more than enough reason to continue developing new ionized sputtering techniques such as HiPIMS.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

คุณสมบัติหลักของ HiPIMS คือ ชุดพ่นจากมาตรฐาน magnetrons ที่ใช้พลาสม่าพัลปล่อย ที่จุดมุ่งหมายที่จะสร้างสูง ionized
พลาสมา มีจำนวนมากวัสดุ sputtered ionizedมีการแสดงระดับสูงการ ionization ชนิด sputtered เพื่อนำไปสู่การเติบโตของเรียบ และหนาแน่น
films ธาตุเช่น reactively เป็นฝากผสม films และเปิดใช้งานการควบคุมผู้ประกอบระยะ ต่อโครงสร้างจุลภาค ตลอดจนคุณสมบัติทางกล และแสง นอกจากนี้ยังมีการรายงานให้ beneficial ในการปรับปรุงการยึดเกาะของ film การเปิดใช้งาน
สะสมของ films รูปบนพื้นผิวรูปทรงซับซ้อน และมีอุณหภูมิสะสมลดลง ในสรุป เป็นที่ชัดเจนว่ามุมมองของประโยชน์ดังกล่าวข้างต้นเช่นมีเหตุผลเพียงพอมากกว่าการพัฒนาใหม่ ionized เทคนิคสปัตเตอร์เช่น HiPIMS

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

คุณสมบัติหลักของ HiPIMS คือการรวมกันของสปัตเตอร์จาก magnetrons ใช้มาตรฐานการปล่อยพลาสม่าชีพจรที่จุดมุ่งหมายคือการสร้างไอออนสูง
พลาสม่าที่มีจำนวนมากแตกตัวเป็นไอออนพ่น material.The ระดับสูงของไอออนไนซ์ของชนิดพ่นได้รับการแสดงที่จะนำ การเติบโตของราบรื่นและหนาแน่น
ภาพยนตร์ธาตุรวมทั้งฝาก reactively ภาพยนตร์สารและเปิดใช้งานการควบคุมองค์ประกอบของเฟสจุลภาครวมทั้งสมบัติทางกลและออปติคอล นอกจากนี้ยังได้รับรายงานว่าจะมีประโยชน์ในแง่ของการปรับปรุงการยึดเกาะฟิล์มทำให้
การสะสมของภาพยนตร์ชุดกับพื้นผิวที่ซับซ้อนที่มีรูปทรงและมีอุณหภูมิสะสมลดลง โดยสรุปเป็นที่ชัดเจนว่ามุมมองของการมีข้อได้เปรียบเช่นคนที่กล่าวถึงข้างต้นเป็นมากกว่าเหตุผลเพียงพอที่จะดำเนินการต่อการพัฒนาเทคนิคสปัตเตอร์ไอออนใหม่เช่น HiPIMS

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

คุณสมบัติหลักของ hipims คือการรวมกันของการสปัตเตอร์จากสามารถ magnetrons มาตรฐานโดยใช้การไหลพลาสม่าที่มีจุดมุ่งหมายคือการสร้างสูงประจุ
พลาสมากับปริมาณขนาดใหญ่ของประจุ sputtered วัสดุ ระดับไอออไนเซชันของ sputtered สายพันธุ์ได้รับการแสดงเพื่อนำไปสู่การเจริญเติบโตของเรียบและแน่น
จึงจัดเป็นสารประกอบธาตุ reactively ฝากจึง LMS และให้ควบคุมของเฟสองค์ประกอบ โครงสร้าง ตลอดจนกลและสมบัติทางแสง . มีรายงานต้องดีจึง่ในแง่ของการปรับปรุงการยึดติดจึง LM ให้
คำให้การของ เครื่องแบบจึง LMS บนพื้นผิวที่มีรูปร่างซับซ้อน และมีการลดลงของอุณหภูมิ กล่าวโดยสรุปมันเป็นที่ชัดเจนว่ามุมมองของมีข้อดีเช่นคนที่กล่าวข้างต้นเป็นมากกว่าเหตุผลเพียงพอที่จะยังคงพัฒนาเทคนิค เช่น hipims ประจุใหม่ส .