After diffusion the wafers are cove

After diffusion the wafers are covered by phosphorus-silicate glass PSG and have a donor
doping layer on both sides and edges. At first the parasitic junction was removed in
HNO3:HF:CH3COOH solution. Then the PSG was removed in a 10 % HF solution for 2 minutes and
the wafers were dried in a spin-drier in an atmosphere of highly purified air.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

หลังจากแพร่ เวครอบคลุม โดยฟอสฟอรัสซิแก้วพู และมีผู้บริจาคเป็นยาสลบชั้นบนทั้งสองด้านและขอบ ตอนแรก แยกพยาธิถูกเอาออกในการแก้ไขปัญหา HNO3:HF:CH3COOH แล้วประหนึ่งถูกเอาออกในการแก้ปัญหา 10% HF 2 นาที และเวที่แห้งใน spin-drier ในบรรยากาศของอากาศบริสุทธิ์สูง

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

หลังจากการแพร่เวเฟอร์ถูกปกคลุมไปด้วยฟอสฟอรัสซิลิเกต PSG แก้วและมีผู้บริจาค
ชั้นยาสลบที่ด้านข้างและขอบทั้งสองด้าน ตอนแรกชุมทางพยาธิจะถูกลบออกใน
HNO3: HF: วิธีการแก้ปัญหา CH3COOH จากนั้นจะถูกลบออก PSG ในการแก้ปัญหา HF 10% เป็นเวลา 2 นาทีและ
เวเฟอร์ก็แห้งในปั่นแห้งในบรรยากาศของอากาศบริสุทธิ์อย่างมาก

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

หลังจากที่การแพร่ เวเฟอร์ ถูกปกคลุมด้วยแก้วซิลิเกตและฟอสฟอรัส PSG มีผู้บริจาคการเติมชั้นทั้งสองข้างและขอบ ตอนแรกแยกปรสิตจะถูกลบออกในแอซิด กรดส้ม โซลูชั่น จากนั้น PSG จะถูกลบออกในสารละลาย HF 10 % นาน 2 นาที และเวเฟอร์แห้งในการปั่นแห้งในบรรยากาศบริสุทธิ์สูงอากาศ