The irradiation source was a pulsed

The irradiation source was a pulsed 5 ns 532 nm nanosecond Nd: YAGlaser (Xiton Photonics laser implemented into a microSTRUCT C laser micromachining work station by 3D-Micromac AG), operated at 50 kHz.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

แหล่งวิธีการฉายรังสีมาเป็นพัลระดับนาโนวินาที 5 ns 532 nm Nd: YAGlaser (Xiton เลเซอร์เลเซอร์นำมาใช้ในห้องทำงาน microSTRUCT C micromachining เลเซอร์ โดย 3D Micromac AG), ดำเนินการที่ 50 kHz

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

แหล่งที่มาของการฉายรังสีเป็นชีพจร 5 NS 532 นาโนเมตร nanosecond Nd: YAGlaser (Xiton Photonics เลเซอร์ดำเนินการเป็นสถานีงานไมโครแมชชีนเลเซอร์ microSTRUCT C โดย 3D-Micromac AG) ดำเนินการใน 50 เฮิร์ทซ์

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

การฉายรังสีแหล่งเป็นพัล 5 ns 532 nm Nd : แย็กเลเซอร์นาโนวินาที ( xiton โฟตอนิกส์เลเซอร์ใช้ใน microstruct C เลเซอร์ micromachining สถานีงาน 3 มิติโดย micromac AG ) ดำเนินการ 50 กิโลเฮิรตซ์