Crystallographic and phase structur

Crystallographic and phase structures of the thin films were determined by X-ray diffraction (Bruker AXS-8D;
Bruker Corporation, Billerica, MA, USA) with CuKαradiation (λ= 0.1541 nm) in the scanning range was between 2θ= 25° and 2θ= 55°. The optical properties of the deposited films was measured in the range of 300 to 800 nm using by an ultraviolet-visible spectrophotometer (UV, Lambda 35; PerkinElmer Inc.,

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

Crystallographic และขั้นตอนโครงสร้างของฟิล์มบางถูกกำหนด โดยการเลี้ยวเบนการเอ็กซ์เรย์ (Bruker AXS - 8D;
บริษัท Bruker, Billerica, MA สหรัฐอเมริกา) กับ CuKαradiation (λ = 0.1541 nm) ในช่วงการสแกนได้ระหว่าง 2θ = 25° และ 2θ = 55 องศา คุณสมบัติแสงของฟิล์มนำฝากที่วัดในช่วง 300-800 nm ใช้การมองเห็นได้อัลตราไวโอเลตเครื่องทดสอบกรดด่าง (UV แลมบ์ดา 35 PerkinElmer Inc.

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

crystallographic และเฟสโครงสร้างของฟิล์มบางได้รับการพิจารณาโดยการเอ็กซ์เรย์เลนส์ (Bruker AXS-8D;
Bruker คอร์ปอเรชั่นบริดจ์, สหรัฐอเมริกา) ด้วยCuKαradiation (λ = 0.1541 นาโนเมตร) อยู่ในช่วงการสแกนระหว่าง2θ = 25 °และ2θ = 55 ° คุณสมบัติทางแสงของฟิล์มฝากวัดในช่วง 300-800 นาโนเมตรโดยใช้ spectrophotometer ที่มองเห็นอัลตราไวโอเลต (UV, แลมบ์ดา 35; PerkinElmer อิงค์

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ทางเฟสและโครงสร้างของฟิล์มบางถูกกำหนดโดยการเลี้ยวเบนของรังสีเอ็กซ์ ( BRUKER axs-8d ;
BRUKER Corporation , โตเกียว , MA , USA ) กับ cuk αรังสี ( λ = 0.1541 nm ) ในการสแกนช่วงระหว่าง 2 θ = 25 / 2 θ = 55 องศา . คุณสมบัติทางแสงของฟิล์มมีวัดในช่วง 300 - 800 nm โดยรังสีอัลตราไวโอเลต ( UV Spectrophotometer , มองเห็นแลมบ์ดา 35 ;Perkinelmer อิงค์