In substitution of the more traditi

In substitution of the more traditionally used indium-tin-oxide (ITO), ZnO:Al allows for the use of inexpensive, non-toxic and earth-abundant ele-ments [4]. Several deposition methods, e.g., sputtering [5], thermal evaporation [6], chemical vapour deposition [7], sol–gel [8], and spray pyrolysis [9] have been reported in the literature for ZnO:Al films. Among them, the direct current (DC) magnetron sputtering deposition remains one of the most attractive technique, asit is a relatively simple and industrially scalable process, and it

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ในการทดแทนมีประเพณีใช้อินเดียมดีบุกออกไซด์ (ITO), ZnO:Al อนุญาตให้ใช้ราคาไม่แพง ไม่เป็นพิษ และดินอุดมสมบูรณ์เอเล-ments [4] มีการรายงานหลายสะสม วิธีการ เช่น พ่น [5], [6] ความร้อนระเหย สะสมไอสารเคมี [7], โซลเจล [8], และสเปรย์ไพโรไลซิ [9] ในวรรณคดีสำหรับฟิล์ม ZnO:Al ในหมู่พวกเขา magnetron กระแสตรง (DC) พ่นสะสมยังคงเป็นหนึ่งในเทคนิคน่าสนใจที่สุด asit เป็นกระบวนการค่อนข้างง่าย และสามารถต่อขยาย industrially และ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

แทนมากขึ้นประเพณีที่ใช้อินเดียมดีบุกออกไซด์ (ITO), ซิงค์ออกไซด์: อัลช่วยให้การใช้ของราคาถูกไม่เป็นพิษและดินที่อุดมสมบูรณ์ ments-เอเล [4] วิธีการสะสมหลายเช่นสปัตเตอร์ [5] การระเหยความร้อน [6], ไอสารเคมีสะสม [7], โซลเจล [8] และสเปรย์ไพโรไลซิ [9] ได้รับการรายงานในวรรณคดีสำหรับซิงค์ออกไซด์: อัภาพยนตร์ ในหมู่พวกเขาปัจจุบัน (DC) แมกนีตรอนสปัตเตอร์สะสมโดยตรงยังคงเป็นหนึ่งในเทคนิคที่น่าสนใจที่สุด Asit เป็นกระบวนการที่ค่อนข้างง่ายและขยายขีดความสามารถอุตสาหกรรมและมัน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ในการใช้ยิ่งใช้ผ้าอินเดียมทินออกไซด์ ( ITO ) , ซิงค์ออกไซด์ : อัลช่วยให้ใช้ของไม่แพง ไม่เป็นพิษ และโลกมากมายเขา ments [ 4 ] แบบหลายวิธี เช่น การสปัตเตอร์ [ 5 ] , การระเหยความร้อน [ 6 ] , ซีวีดี [ 7 ] , โซล - เจลและสเปรย์ไพโรไลซีส [ 8 ] , [ 9 ] ได้รับการรายงานในวรรณคดีสำหรับฟิล์มซิงค์ออกไซด์ : อัล ในหมู่พวกเขากระแสตรง ( ดีซีแมกนีตรอนสปัตเตอริง ) สะสมยังคงเป็นหนึ่งของเทคนิคที่น่าสนใจมากที่สุด นี้ค่อนข้างง่าย และทางอุตสาหกรรม ด้านกระบวนการ และมัน