The flow rate of H2 is constant at

The flow rate of H2 is constant at 50 sccm for all experiments. H2 is introduced with the purpose of etching the deposited amorphous carbon which acts as a passivation layer that can terminate the growth of nanotubes.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

อัตราการไหลของ H2 เป็นค่าคงที่ผิด 50 สำหรับการทดลองทั้งหมด H2 ถูกนำมาใช้มีวัตถุประสงค์ในการแกะสลักคาร์บอนไปฝากซึ่งจะเป็นชั้นของฟิล์มที่สามารถสิ้นสุดการเจริญเติบโตของ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

อัตราการไหลของ H2 เป็นค่าคงที่ที่ 50 SCCM สำหรับการทดลองทั้งหมด H2 ถูกนำมาใช้กับวัตถุประสงค์ของการแกะสลักคาร์บอนอสัณฐานฝากซึ่งทำหน้าที่เป็นชั้นฟิล์มที่ว่าสามารถยุติการเจริญเติบโตของท่อนาโน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

อัตราการไหลของราคาคงที่ที่ 50 sccm ในทุกการทดลอง แต่ใช้กับวัตถุประสงค์ของการมีคาร์บอนอสัณฐาน ซึ่งทำหน้าที่เป็นชั้นของรุ้ง ที่สามารถยุติการเติบโตของนาโน .