Ehrmann et al.
investigated the optical proprieties of transparent conductive oxides (TCOs),
used as antireflective coatings,
deposited with a physical deposition technique,
called magnetron sputtering.
It is a Plasma Vapor Deposition (PVD) process in which plasma is created and positively charged ions are accelerated and,
by means of an electrical field,
are deposited on the target,
condensing on surfaces and thus creating a thin film.
The advantages of this deposition method are: high adherence,
wear resistance and smoothness.
After a parametric study of different target materials as ZnO, Al2O3, target-substrate distance, pressure before and during deposition,
substrate temperature and so on,
morphological investigations have been made by means of scanning electron microscope and optical properties,
as reflectance and transmittance,
determined using a Fourier Transform Infrared (FTIR) spectrometer.
The solar transmittance of these selective layers is about 85%,
that is higher than other conventional ones (71%).
By using low-e coating on the surface of the covering,
the efficiency of this flat solar collector increases (it is about 77% at a temperature difference of 20 °C),
compared to the traditional one.
The results, presented in this paper, are promising for the development of highly efficient flat-plate collectors.
Boudaden et al.
investigated the optical proprieties of two dielectric materials as TiO2 and SiO2,
deposited by sputtering technique,
for antireflective coatings for solar thermal applications.
From spectroscopic results,
it has been proved that the sputtered films could be successfully used in solar thermal applications because of low absorbance and high reflectivity (up to 70%),
high solar transmission (it is about 87% for the bilayer film and 70% for triple layer film); good adherence,
because the sputtering is a physical deposition technique.
แอร์เมิน et al .ศึกษา proprieties แสงใสนำออกไซด์ ( tcos )ใช้เป็น antireflective ไม้แปรรูป ,ฝากด้วยเทคนิคการเคลือบทางกายภาพเรียกว่า แมกนีตรอนสปัตเตอริง .เป็นพลาสม่า vapor deposition ( PVD ) ในพลาสมา และกระบวนการที่สร้างประจุบวกประจุถูกเร่งและโดยสนามไฟฟ้าจะฝากบนเป้าหมายควบแน่นบนพื้นผิวและดังนั้นการสร้างฟิล์มบางข้อดีของวิธีนี้คือการสะสมสูงความต้านทานการสึกหรอและเรียบเนียนหลังจากการศึกษาตัวแปรของวัสดุเป้าหมายที่แตกต่างกันเช่นซิงค์ออกไซด์ Al2O3 , ระยะตั้งต้น , เป้าหมาย , ความดันก่อนและระหว่างการสะสม ,อุณหภูมิพื้นผิวและการตรวจสอบลักษณะทางสัณฐานวิทยาได้โดยใช้กล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนและสมบัติของแสงเป็นแสงสะท้อน และ ,พิจารณาการใช้ฟูเรียร์ Infrared ( FTIR ) สเปกโตรมิเตอร์แสงอาทิตย์ส่องผ่านชั้นของงานเหล่านี้คือประมาณ 85 %นั่นคือสูงกว่าคนปกติอื่น ๆ ( 71% )โดยการใช้สีเคลือบลงบนพื้นผิวของครอบคลุมประสิทธิภาพของแบนนี้พลังงานแสงอาทิตย์เพิ่มขึ้น ( ประมาณ 77 เปอร์เซ็นต์ที่อุณหภูมิ 20 ° C ความแตกต่าง )เมื่อเทียบกับแบบหนึ่งผลลัพธ์ที่นำเสนอในงานวิจัยนี้ เป็นสัญญาเพื่อการพัฒนาที่มีประสิทธิภาพสูงในการสะสมแผ่นแบน .boudaden et al .ศึกษา proprieties แสงสองวัสดุและฉนวนเป็น SiO2 ) ,เคลือบด้วยเทคนิคสปัตเตอริง ,สำหรับเคลือบ antireflective สำหรับการใช้งานความร้อนพลังงานแสงอาทิตย์ทางจากผล ,มันได้ถูกพิสูจน์ว่าฟิล์มเคลือบอนุภาคสามารถใช้ในงานความร้อนพลังงานแสงอาทิตย์เพราะค่าต่ำและการสะท้อนแสงสูง ( ถึง 70% )การส่งผ่านแสงสูง ( ประมาณ 87% สำหรับสองชั้นภาพยนตร์และ 70% สำหรับชั้นฟิล์มสาม ) ; ดีการยึดมั่นเพราะทำงานเป็นเทคนิคการเคลือบทางกายภาพ
การแปล กรุณารอสักครู่..
