The UV/VIS spectra for the solution

The UV/VIS spectra for the solution contain ZnO@SiO2 and ZnO@
SiO2@mSiO2 NPs in HY surfactant Fig. 6(a–c). HY surfactant was used
to obtain a homogenous solution of un-coated and coated silica zinc
oxide particles. Two peaks at 359, 290 nm are shown in Fig. 6(a–c),
that characteristic for the presence of ZnO nanoparticles [22,33]. It is
found that there is a decreasing of the absorption band intensities as
the number of shells of coated silica is build up on zinc oxide (ZnO@
SiO2 to ZnO@SiO2@mSiO2). There was a shift of the absorption band at
307 nm for the free uncoated ZnO to shorter wavelength at 290 nm
for ZnO@SiO2 and at 283 nm for ZnO@SiO2@mSiO2 . The blue shift of
the absorption band 307 nm to shorter wavelength is probably due to
decreasing of the particle size. No peaks are observed for the ZnO free
coated silica-mesosilica indicating the absence of the shell core of zinc
oxide (Fig. 7b) when treated with HCl acid in comparison with that of
ZnO@SiO2(Fig. 7b).

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

สเปกตรัมรังสี UV/VIS สำหรับโซลูชันประกอบด้วย ZnO@SiO2 และ ZnO แอทNPs SiO2@mSiO2 ใน HY ชุดรูป 6(a–c) ใช้สารทำความสะอาด HYการขอรับซิลิก้าไม่เคลือบ และเคลือบสังกะสีละลายเป็นเนื้อเดียวกันออกไซด์อนุภาค สองยอดที่ 359, 290 nm จะแสดงอยู่ในรูป 6(a–c)ลักษณะที่ปรากฏตัวของ ZnO เก็บกัก [22,33] มันเป็นพบว่ามีการลดลงของความเข้มที่วงการดูดซึมเป็นจำนวนกระสุนปืนของซิลิกาเคลือบคือ สร้างขึ้นบนสังกะสีออกไซด์ (ZnO แอทSiO2 เพื่อ ZnO@SiO2@mSiO2) มีการเปลี่ยนแปลงของวงการดูดซึมที่307 นิวตันเมตร ZnO เคลือบผิวฟรีที่ความยาวคลื่นสั้นที่ 290 นาโนเมตรสำหรับ ZnO@SiO2 และ ที่ 283 nm สำหรับ ZnO@SiO2@mSiO2 การเปลี่ยนแปลงสีน้ำเงินด้านnm วง 307 การดูดซึมที่ความยาวคลื่นสั้นลงอาจเป็นการการลดขนาดอนุภาค สังเกตยอดไม่มี ZnO ฟรีเคลือบซิลิกา-mesosilica ระบุว่า การขาดหลักเชลล์ของสังกะสีออกไซด์ (รูป 7b) เมื่อรักษา ด้วยกรด HCl เมื่อเปรียบเทียบกับของZnO@SiO2 (รูป 7b)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

สเปกตรัม UV / VIS สำหรับการแก้ปัญหามีซิงค์ออกไซด์ @ SiO2 และ ZnO @
SiO2 @ mSiO2 NPS ใน HY ลดแรงตึงผิวรูป 6 (a-C) HY ลดแรงตึงผิวถูกนำมาใช้
เพื่อให้ได้ทางออกที่เป็นเนื้อเดียวกันของสหประชาชาติและเคลือบซิลิกาเคลือบสังกะสี
อนุภาคออกไซด์ สองยอดที่ 359, 290 นาโนเมตรจะแสดงในรูป 6 (a-C)
ลักษณะที่การปรากฏตัวของอนุภาคนาโนซิงค์ออกไซด์ [22,33] มันเป็นเรื่องที่
พบว่ามีการลดลงของความเข้มของการดูดซึมวงเป็น
จำนวนเปลือกของซิลิกาเคลือบคือสร้างขึ้นบนสังกะสีออกไซด์ (ZnO @
SiO2 เพื่อ ZnO @ @ SiO2 mSiO2) มีการเปลี่ยนแปลงของวงดนตรีการดูดซึมที่เป็น
307 นาโนเมตรสำหรับซิงค์ออกไซด์เคลือบผิวฟรีเพื่อความยาวคลื่นสั้นที่ 290 นาโนเมตร
สำหรับ ZnO @ SiO2 และ 283 นาโนเมตรสำหรับ ZnO @ @ SiO2 mSiO2 กะสีฟ้าของ
การดูดซึมวง 307 นาโนเมตรเพื่อความยาวคลื่นสั้นอาจเป็นเพราะการ
ลดขนาดอนุภาค ไม่มียอดเขาเป็นที่สังเกตสำหรับ ZnO ฟรี
เคลือบซิลิกา mesosilica บ่งบอกตัวตนของแกนเปลือกของสังกะสี
ออกไซด์ (รูป. 7b) เมื่อได้รับการรักษาด้วยกรดไฮโดรคลอริกในการเปรียบเทียบกับที่ของ
ZnO @ SiO2 (รูป. 7b)

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ส่วน UV / VIS Spectra สำหรับโซลูชั่นที่ประกอบด้วยซิงค์ออกไซด์ ZnO @ @ SiO2 และโดย SiO2 @ msio2 HY สารลดแรงตึงผิวในรูปที่ 6 ( ( C ) ทำไมใช้สารลดแรงตึงผิวเพื่อให้ได้สารละลายเนื้อเดียวของสหประชาชาติเคลือบและเคลือบด้วยสังกะสีอนุภาคออกไซด์ สองยอดที่ 359 , 290 nm จะแสดงในรูปที่ 6 ( ( C ) ,ที่ลักษณะของการแสดงตนของซิงค์ออกไซด์นาโน [ 22,33 ] มันคือพบว่ามีการลดลงของความเข้มเป็นแถบการดูดกลืนจํานวนของหอยของซิลิก้าเคลือบถูกสร้างขึ้นบนซิงค์ออกไซด์ ( ZnO @เพื่อซิงค์ออกไซด์ SiO2 ซิลิ @ @ msio2 ) มีการเปลี่ยนแปลงของการดูดกลืนที่307 nm สำหรับเคลือบผิวฟรี ZnO ความยาวคลื่นสั้นที่ 290 nmสำหรับซิงค์ออกไซด์ SiO2 และ @ 283 นาโนซิงค์ออกไซด์ SiO2 @ @ msio2 . ฟ้าเปลี่ยน ของการดูดซึมวง 307 nm ความยาวคลื่นสั้นลง อาจเนื่องจากการลดลงของอนุภาคขนาด ไม่มียอดเป็นสังเกตสำหรับ ZnO ฟรีเคลือบซิลิก้า mesosilica ชี้ขาดของแกนเปลือกของสังกะสีออกไซด์ ( รูปที่ 7b ) เมื่อรักษาด้วย HCl กรดในการเปรียบเทียบกับที่ของซิงค์ออกไซด์ SiO2 @ ( รูปที่ 7b )