This was done by sputtering 100nm o

This was done by sputtering 100nm of Cr, patterned using photolithography and etched in Cr-14 etchant.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

นี้ถูกทำ โดยพ่น 100nm ของ Cr ลวดลายใช้ photolithography และสลักใน Cr-14 etchant

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

นี้ทำโดยสปัตเตอร์ 100nm ของ Cr ลวดลายโดยใช้ photolithography และฝังใน Cr-14 etchant

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

นี้ถูกทำโดย 100nm สปัตเตอร์ CR มีลวดลายใช้ 43 และฝังลงใน cr-14 etchant .