acquiring two-dimensional diffracti

acquiring two-dimensional diffraction patterns. Additionally, a silicon drift detector, positioned at 90◦ with respect to the incoming beam, allowed the simultaneous registration of fluorescence spectra, thereby combining XRF tomography (element distributions in a virtual cross section) and XRD tomography (crystallographic phase distributions). Figure 2 summarizes the combined μ-XRF/XRD tomography setup as well as the pattern decomposition method explained earlier.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

หารูปแบบการเลี้ยวเบนแบบสองมิติ นอกจากนี้ เครื่องตรวจจับดริฟท์ซิลิคอน ตำแหน่งที่ 90◦ กับคานขาเข้า อนุญาตให้ลงทะเบียนพร้อมแรมสเป็คตรา fluorescence รวม XRF คอมพิวเตอร์ (องค์ประกอบการกระจายในส่วนข้ามเสมือน) และ XRD คอมพิวเตอร์ (crystallographic ระยะกระจาย) รูปที่ 2 สรุปการตั้งค่าคอมพิวเตอร์μ-XRF/XRD รวมเป็นวิธีแยกส่วนประกอบรูปแบบที่อธิบายไว้ก่อนหน้านี้

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

การแสวงหารูปแบบการเลี้ยวเบนสองมิติ นอกจากนี้เครื่องตรวจจับลอยซิลิกอนในตำแหน่งที่90◦ที่เกี่ยวกับคานที่เข้ามาได้รับอนุญาตให้ลงทะเบียนพร้อมกันของสเปกตรัมเรืองแสงจึงรวมเอกซ์เรย์ XRF (แจกแจงองค์ประกอบในส่วนข้ามเสมือน) และการตรวจเอกซเรย์ XRD (แจกแจงขั้นตอน crystallographic) รูปที่ 2 สรุปรวมμ-XRF / XRD ติดตั้งเอกซ์เรย์เช่นเดียวกับวิธีการสลายตัวรูปแบบการอธิบายก่อนหน้านี้

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

รับสองมิติโดยรูปแบบ นอกจากนี้ ซิลิคอนลอยตรวจจับ , ตําแหน่งที่ 90 ◦เกี่ยวกับคานเข้ามา อนุญาตการลงทะเบียนพร้อมกันของสเปกตรัมฟลูออเรสเซนซ์ ( XRF โทโมกราฟี งบรวมองค์ประกอบการกระจายในส่วนข้ามเสมือน ) และตรวจเอกซเรย์คอมพิวเตอร์ ( การกระจายระยะทาง )รูปที่ 2 สรุปรวมμ - XRF / ตรวจเอกซเรย์คอมพิวเตอร์ รวมทั้งรูปแบบการติดตั้ง วิธีการอธิบายก่อนหน้านี้