Vacuum deposition of phenytoin was

Vacuum deposition of phenytoin was performed in a custommade
setup.
At a sublimation temperature of 115 °C and a
pressure 10−4 mbar, a deposition rate of 3 nm/min was
achieved. The samples were kept at room temperature. This
resulted in amorphous films being present after the preparation
process

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ทำสะสมสิวของ phenytoin ในการ custommadeการตั้งค่า อุณหภูมิการระเหิดของ 115 ° C และมีอัตราสะสม 3 nm/min ความดัน 10−4 mbarประสบความสำเร็จ ตัวอย่างที่ถูกเก็บไว้ที่อุณหภูมิห้อง นี้ส่งผลให้ฟิล์มไปแสดงหลังจากการเตรียมกระบวนการ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

การสะสมของฝุ่น phenytoin ได้ดำเนินการใน CustomMade
การติดตั้ง.
ที่ระเหิดอุณหภูมิ 115
องศาเซลเซียสและความดัน10-4 เอ็มบาร์อัตราการสะสมของ 3 นาโนเมตร /
นาทีได้รับการประสบความสำเร็จ กลุ่มตัวอย่างที่ถูกเก็บไว้ที่อุณหภูมิห้อง นี้ส่งผลให้ในภาพยนตร์อสัณฐานเป็นปัจจุบันหลังจากการจัดทำกระบวนการ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

สะสมสูญญากาศของเฟนิโทอินในการปฏิบัติการตั้งค่าคัสตอมเมด


ที่ระเหิดอุณหภูมิ 115 องศา C และความดัน 10 − 4
มิลลิบาร์ , สะสมคะแนน 3 nm / มิน
ลุ้นรับ ตัวอย่างที่ถูกเก็บไว้ในอุณหภูมิห้อง นี้ส่งผลให้ฟิล์มไปเป็นปัจจุบัน

หลังจากกระบวนการเตรียม