At higher TA, a formationof the HfO

At higher TA, a formation
of the HfO2 monoclinic phase is evident by an increase of the observed
peaks' intensity with their concomitant narrowing and an appearance
of some peaks in the range of 2θ=40–65° (Fig. 3). Annealing of HfSiO
film at 1100 °C results in the appearance of the peaks at 2θ=30.3°,
2θ=35.3° and 2θ=50.6°, that become to be more pronounced for
longer annealing time.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ที่สูงกว่าตา การก่อตัวของ HfO2 เฟส monoclinic เห็นได้ชัดจากการเพิ่มขึ้นของการสังเกตของยอดความเข้มกวดขันความมั่นใจและรูปลักษณ์ที่ของยอดบางช่วงของ 2θ = 40 – 65° (3 รูป) หลอมของ HfSiOฟิล์ม 1100 ° C ผลในลักษณะของยอดเขาที่ 2θ = 30.3 °2θ = 35.3 °และ 2θ = 50.6 ° ที่จะสามารถเพิ่มเสียงสำหรับเวลาหลอมอีกต่อไป

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ที่ TA สูงกว่าการก่อตัว
ของเฟส monoclinic HfO2 เห็นได้ชัดจากการเพิ่มขึ้นของการสังเกต
ความเข้มของยอดเขาที่มีการกวดขันกันของพวกเขาและลักษณะ
ของยอดเขาในบางช่วงของ2θ = 40-65 ° (รูปที่. 3) การหลอม HfSiO
ภาพยนตร์ที่ 1,100 องศาเซลเซียสผลในลักษณะของยอดเขาที่2θ = 30.3 องศา
2θ = 35.3 °และ2θ = 50.6 °ที่กลายเป็นที่จะเด่นชัดมากขึ้นสำหรับ
เวลาการอบนาน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ในการสร้างที่สูง ทาของ hfo2 เฟสโมโนคลินิก เห็นได้ชัดจากการเพิ่มขึ้นของสังเกตยอดความเข้มกับผู้ป่วยของพวกเขา " และให้ปรากฏตัวของยอดเขาในช่วง 2 θ = 40 - 65 องศา ( รูปที่ 3 ) ข้อดีของ hfsioภาพยนตร์ที่ 1100 ° C ผลลัพธ์ในลักษณะของยอดเขาที่θ 30.3 องศา = 2 ,2 θ = 35.3 องศา 2 θ = 50.6 องศา ที่กลายเป็นเด่นชัดมากขึ้นสำหรับอบอ่อนนาน .