Kinetics of Sorption.The rate of up

Kinetics of Sorption.The rate of uptake of metal ions on
Amberlite XAD-2-HAPTSC was studied by batch method. Fifty
micrograms of individual metal ion solutions was added to 1.0
g of resin and stirred for 2, 5, 10, 20, 30, 40, 50, 60, 90, and
120 min at room temperature. The metal ions on the resin
surface were eluted with2MHNO3and analyzed by ICPAES
as described in the recommended procedure. The saturation of
resin with time is graphically presented inFigure 3. The loading
half-time,t1/2, needed to reach 50% sorption of the total loading

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

จลนพลศาสตร์ของประจุโลหะในอัตรา Sorption.The
Amberlite XAD-2-HAPTSC ถูกศึกษา โดยวิธีการชุดงาน 50
micrograms โลหะไอออนแต่ละโซลูชั่นเพิ่ม 1.0
g ของเรซิน และคนใน 2, 5, 10, 20, 30, 40, 50, 60, 90 และ
120 นาทีที่อุณหภูมิห้อง ประจุโลหะบนยางไม้
ผิวถูกวิเคราะห์ โดย ICPAES with2MHNO3and eluted
ตามที่อธิบายไว้ในขั้นตอนแนะนำ ความเข้มของ
resin เวลาภาพแสดง inFigure 3 โหลด
ครึ่งวัน t1/2 ต้องไปถึงดูด 50% ของโหลดทั้งหมด

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

จลนพลศาสตร์ของอัตรา Sorption.The ของการดูดซับไอออนของโลหะใน
Amberlite XAD-2-HAPTSC ได้รับการศึกษาโดยวิธีการแบทช์ ห้าสิบ
ไมโครกรัมของการแก้ปัญหาของแต่ละโลหะไอออนถูกบันทึกอยู่ 1.0
กรัมของเรซินและคนสำหรับ 2, 5, 10, 20, 30, 40, 50, 60, 90 และ
120 นาทีที่อุณหภูมิห้อง ไอออนของโลหะในเรซิน
พื้นผิวถูกชะ with2MHNO3and วิเคราะห์โดย ICPAES
ที่อธิบายไว้ในขั้นตอนที่แนะนำ อิ่มตัวของ
เรซินที่มีเวลาที่จะนำเสนอกราฟิก inFigure 3 โหลด
ครึ่งเวลา t1 / 2, จำเป็นที่จะไปถึง 50% การดูดซับของโหลดทั้งหมด

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

จลนพลศาสตร์ของการดูดซับ อัตราการดูดซึมของไอออนโลหะในสารละลาย
xad-2-haptsc ศึกษาโดยวิธีการแบทช์ ห้าสิบ
ไมโครกรัมของโซลูชั่นไอออนโลหะแต่ละเพิ่ม 1.0
g เรซิ่นและกวน 2 , 5 , 10 , 20 , 30 , 40 , 50 , 60 , 90 และ
120 นาที ที่อุณหภูมิห้อง โลหะไอออนบนพื้นผิวเรซินมีตัวอย่างวิเคราะห์โดย icpaes with2mhno3and

ตามที่อธิบายไว้ในขั้นตอนที่แนะนำ .ความอิ่มตัวของเรซินกับกราฟิกแสดงเวลา
infigure 3 โหลด
ครึ่งเวลา , T1 / 2 ต้องไปถึง 50% การดูดซับของโหลดทั้งหมด