and the roughness remained basicall

and the roughness remained basically unchanged after the etched channel was water flushed (Fig. 3c) indicating that the smooth PMMA surface was not significantly damaged for a low dose exposure (about 7.5 J cm-2) UV-lithography

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

และความหยาบที่ยังคงไม่เปลี่ยนแปลงโดยทั่วไปหลังจากผ่านการเอทชิ่งช่อง น้ำล้าง (รูป 3c) ระบุว่า PMMA เรียบไม่เสียหายมากสำหรับการเปิดรับแสงปริมาณต่ำ (ประมาณ 7.5 J ซม.-2) ทำลวดลายวงจร UV

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

และความขรุขระยังคงไม่เปลี่ยนแปลงโดยทั่วไปหลังจากที่ช่องสลักถูกน้ำแดง (รูป. 3C) แสดงให้เห็นว่าพื้นผิวเรียบ PMMA ไม่ได้รับความเสียหายอย่างมีนัยสำคัญสำหรับการเปิดรับแสงขนาดต่ำ (ประมาณ 7.5 ซม. J-2) UV-พิมพ์หิน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ผิวโดยทั่วไปและยังคงไม่เปลี่ยนแปลงหลังจากแกะสลักน้ำล้างช่อง ( รูปที่ 3 ) ที่ระบุว่า พื้นผิวเรียบ ไม่พบความเสียหายสำหรับ PMMA มีแสงปริมาณต่ำ ( ประมาณ 7.5 J cm-2 ) ภาพยนตร์จีน ยูวี