Evaluation of the resistance of arc

Evaluation of the resistance of arc discharges are important in ESD phenomenon since these events are evident in ESD simulation, such as charged device model (CDM), machine model (MM) for components and other ESD gun simulators for systems. Toepler, in 1906, established a relationship of the arc resistance in a discharge process [15]. Toepler’s law states that the arc resistance at any time is inversely proportional to the charge which has flowed through the arc

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

การประเมินความต้านทานของปล่อยโค้งมีความสำคัญในปรากฏการณ์ ESD ตั้งแต่เหตุการณ์เหล่านี้ในการจำลอง ESD เช่นรุ่นของอุปกรณ์ชาร์จ (CDM), เครื่องรุ่น (MM) สำหรับคอมโพเนนต์ และอื่น ๆ เครื่องจำลองปืน ESD สำหรับระบบ Toepler ใน 1906 สร้างความสัมพันธ์ของความต้านทานของส่วนโค้งในกระบวนการดีสชาร์จ [15] กฎหมายของ Toepler ระบุว่า ความต้านทานโค้งตลอดเวลา inversely สัดส่วนค่าธรรมเนียมที่มีไหลผ่านโค้ง

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

การประเมินผลของความต้านทานของการปล่อยโค้งมีความสำคัญในปรากฏการณ์ ESD ตั้งแต่เหตุการณ์เหล่านี้จะเห็นได้ชัดในการจำลอง ESD เช่นรูปแบบการเรียกเก็บอุปกรณ์ (CDM) รูปแบบเครื่อง (mm) สำหรับส่วนประกอบและจำลอง ESD ปืนอื่น ๆ สำหรับระบบ Toepler ในปี 1906 สร้างความสัมพันธ์ของความต้านทานโค้งในกระบวนการปล่อย [15] กฎหมายของ Toepler ระบุว่าความต้านทานโค้งได้ตลอดเวลาจะแปรผกผันกับค่าใช้จ่ายที่ได้ไหลผ่านโค้ง