Laser interference lithography is a

Laser interference lithography is a pattern definition technique capable of defining micrometer and sub-micrometer large area periodic patterns. Interference lithography has two advantages compared with other fabrication techniques like electron beam lithography and laser writing:


1. Interference lithography is not a step-and-repeat process but allows for processing of a complete substrate with one single exposure (several full area exposures for generation of more complex patterns),


2. Interference lithography offers the possibility to realize homogeneous micro and sub-micrometer structured surfaces on areas more than one square meter in size either impossible or extremely time and cost consuming with other patterning technologies.


Laser interference lithography is made with a large scale interferometer setup. First step is to split the laser beam into two equal laser beams that are directed by mirrors and expanded by lenses. Behind the lenses spatial filters are mounted to avoid parasitic interference effects such as airy patterns which have their origin in dust particles or defects on the optical components. A photoresist coated substrate, size up to 1 m^2, is mounted in a holder and positioned in the area where the two single laser beams superimpose. Thus, the photoresist is exposed via the interference pattern and the interference pattern determines the surface relief profile of the resist after development.


There are many parameters in laser interference lithography to optimize and tweak and with perfect control of these it is possible to make advanced 3D shaped structures like micro lens arrays and anti-reflective structures.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เลเซอร์รบกวนภาพพิมพ์หินเป็นเทคนิคนิยามรูปแบบสามารถกำหนดรูปประจำงวดไมโครมิเตอร์และมิเตอร์ย่อยพื้นที่ใหญ่ การทำลวดลายวงจรรบกวนมีสองข้อได้เปรียบเมื่อเทียบกับเทคนิคการผลิตอื่น ๆ เช่นการทำลวดลายวงจรลำแสงอิเล็กตรอนและเขียนด้วยเลเซอร์: 1. รบกวนพิมพ์ไม่กระบวนการขั้นตอนที่ซ้ำ แต่ช่วยให้สำหรับการประมวลผลของพื้นผิวสมบูรณ์หนึ่งเดียวรับสัมผัส (หลายเต็มพื้นที่รับแสงสำหรับการสร้างรูปแบบที่ซับซ้อนมากขึ้น), 2. รบกวนพิมพ์เสนอโอกาสที่จะตระหนักถึงเหมือนไมโครและไมโครมิเตอร์ย่อยโครงสร้างพื้นผิวบนพื้นที่หนึ่งตารางเมตรในขนาดอย่างใดอย่างหนึ่งไปไม่ได้ หรือมากเวลา และต้นทุนใช้เทคโนโลยีแบบอื่น ๆ พิมพ์เลเซอร์รบกวนทำ ด้วยการตั้งค่าอินเตอร์เฟียร์โรมิเตอร์ขนาดใหญ่ ขั้นแรกคือการ แยกลำแสงเลเซอร์เป็นลำแสงเลเซอร์เท่าสองที่กำกับ โดยกระจก และเลนส์ขยาย หลังเลนส์ กรองเชิงพื้นที่จะติดตั้งเพื่อหลีกเลี่ยงผลกาฝากรบกวนเช่นลายโปร่งซึ่งมีจุดกำเนิดของอนุภาคฝุ่นหรือข้อบกพร่องในแสงประกอบ เพียงการเคลือบพื้นผิว ขนาดถึง 1 m ^ 2 ในที่ยึดติด และในบริเวณที่ลำแสงเลเซอร์ที่เดียวสองซ้อน ดังนั้น เพียงการสัมผัสผ่านรูปแบบการรบกวน และรูปแบบการรบกวนกำหนดโพรไฟล์บรรเทาผิวของตัวต้านทานหลังจากการพัฒนา มีหลายพารามิเตอร์ในการทำลวดลายวงจรรบกวนเลเซอร์เพื่อเพิ่มประสิทธิภาพ และปรับแต่ง และ มีการควบคุมที่สมบูรณ์แบบเหล่านี้ จำเป็นต้องทำขั้นสูง 3D รูปโครงสร้างเช่นเลนส์ไมโครอาร์เรย์และโครงสร้างป้องกันแสงสะท้อน

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

เลเซอร์รบกวนพิมพ์หินเป็นเทคนิคนิยามรูปแบบที่มีความสามารถในการกำหนดไมโครเมตรและย่อยไมโครเมตรพื้นที่ขนาดใหญ่รูปแบบเป็นระยะ ๆ การรบกวนการพิมพ์หินมีสองข้อได้เปรียบเมื่อเทียบกับเทคนิคการผลิตอื่น ๆ เช่นการพิมพ์หินลำแสงอิเล็กตรอนและการเขียนเลเซอร์: 1 การรบกวนการพิมพ์หินไม่ได้เป็นกระบวนการขั้นตอนและทำซ้ำ แต่ช่วยให้การประมวลผลของพื้นผิวที่สมบูรณ์แบบด้วยการสัมผัสเพียงครั้งเดียว (หลายความเสี่ยงเต็มพื้นที่ในการสร้างรูปแบบที่ซับซ้อนมากขึ้น) 2 การรบกวนการพิมพ์หินมีความเป็นไปที่จะตระหนักถึงเนื้อเดียวกันไมโครและย่อยไมโครเมตรพื้นผิวที่มีโครงสร้างในพื้นที่ที่มากกว่าหนึ่งตารางเมตรในขนาดอย่างใดอย่างหนึ่งไปไม่ได้หรือเวลามากและค่าใช้จ่ายในการบริโภคด้วยเทคโนโลยีแบบอื่น ๆ . เลเซอร์รบกวนพิมพ์หินทำด้วยการติดตั้ง interferometer ขนาดใหญ่ ขั้นตอนแรกคือการแยกลำแสงเลเซอร์ออกเป็นสองเท่ากับลำแสงเลเซอร์ที่มีการกำกับการแสดงโดยกระจกและขยายตัวเลนส์ เบื้องหลังเลนส์ฟิลเตอร์เชิงพื้นที่ที่ติดตั้งเพื่อหลีกเลี่ยงผลรบกวนปรสิตเช่นรูปแบบโปร่งสบายซึ่งมีต้นกำเนิดในอนุภาคฝุ่นหรือข้อบกพร่องในองค์ประกอบแสง พื้นผิวเคลือบสารไวแสงขนาดถึง 1 เมตร ^ 2 จะติดตั้งอยู่ในที่ยึดและตำแหน่งในพื้นที่ที่ทั้งสองลำแสงเลเซอร์เดียวซ้อน ดังนั้นไวแสงถูกเปิดเผยผ่านทางรูปแบบการรบกวนและรูปแบบการรบกวนกำหนดรายละเอียดการบรรเทาผิวต่อต้านหลังจากการพัฒนา. มีตัวแปรหลายอย่างในเลเซอร์รบกวนพิมพ์หินเพื่อเพิ่มประสิทธิภาพและปรับแต่งและมีการควบคุมที่สมบูรณ์แบบของเหล่านี้ก็เป็นไปได้ที่จะทำให้ 3 มิติขั้นสูง โครงสร้างรูปร่างเหมือนอาร์เรย์เลนส์ไมโครและโครงสร้างป้องกันแสงสะท้อน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

รบกวนรุ่นเลเซอร์รูปแบบคำนิยามเทคนิคสามารถกำหนดรูปแบบและธาตุย่อยไมโครมิเตอร์ไมโครมิเตอร์เป็นพื้นที่ขนาดใหญ่ รบกวนรุ่นมีสองข้อได้เปรียบเมื่อเทียบกับเทคนิคการผลิตอื่น ๆเช่นอิเล็กตรอนและเขียน : รุ่นเลเซอร์1 . รบกวนรุ่นไม่ใช่ขั้นตอนและกระบวนการทำซ้ำ แต่ช่วยให้สำหรับการประมวลผลของพื้นผิวที่สมบูรณ์หนึ่งเดียวแสง ( แบบเต็มพื้นที่หลายรุ่นของรูปแบบซับซ้อนมากขึ้น )2 . รบกวนรุ่นมีความเป็นไปได้ที่จะตระหนักถึงเป็นไมโครและย่อยไมโครมิเตอร์โครงสร้างพื้นผิวบนพื้นที่กว่าหนึ่งตารางเมตรขนาดเหมือนกันเป็นไปไม่ได้หรือมากเวลาและค่าใช้จ่ายที่ใช้กับอื่น ๆภาษาเทคโนโลยีรบกวนทำให้ด้วยเลเซอร์ เป็นหินขนาดใหญ่อินเตอร์เฟอโรมิเตอร์ติดตั้ง ขั้นตอนแรกคือการแยกลำแสงเลเซอร์ เป็นเลเซอร์เท่ากับสองคานที่กำกับโดยกระจกและขยายด้วยเลนส์ หลังเลนส์ ( ตัวติดตั้งเพื่อหลีกเลี่ยงผลรบกวนพยาธิ เช่น ลวดลายโปร่งซึ่งมีต้นกำเนิดในอนุภาคฝุ่นหรือข้อบกพร่องในองค์ประกอบแสง เป็นระบบเคลือบพื้นผิว ขนาดถึง 1 m ^ 2 , ติดตั้งในผู้ที่อยู่ในพื้นที่ ซึ่งสองเดียว ลำแสงเลเซอร์ใส่ ดังนั้น ระบบสัมผัสผ่านการแทรกแซงการแทรกแซงแบบกำหนดรูปแบบและพื้นผิวชื้นโปรไฟล์ของต่อต้านหลังการพัฒนามีพารามิเตอร์หลายในเลเซอร์รบกวนภายในเพื่อเพิ่มประสิทธิภาพและปรับแต่งและมีการควบคุมที่สมบูรณ์แบบเหล่านี้ เป็นไปได้เพื่อให้รูปร่างโครงสร้างอาร์เรย์ 3 มิติขั้นสูง เช่น เลนส์ Micro และโครงสร้างป้องกันสะท้อนแสง