.Because known stress response path

.
Because known stress response pathways were activated in L. plantarum WCFS1 during growth in the presence of ethanol, we examined whether this strain could withstand higher levels of other chemical or environmental stresses after exposure to ethanol compared to normally grown cells. The cross-protective stress tolerance levels of L. plantarum cultures grown for 24 h in the presence of ethanol were determined by exposing the cells to lethal levels of hydrogen peroxide (40 mM), UV radiation (254 nm, ranging from 0 to 180 s), acid pH (pH 2.4), and elevated temperatures (37°C to 53°C), as well as growth in high NaCl concentrations (0.6, 0.7, and 0.85 M).

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

.เนื่องจากทราบวิถีการตอบสนองความเครียดถูกใช้งานในบาซิลลัส L. WCFS1 ในระหว่างการเจริญเติบโตในที่ที่มีเอทานอล เราตรวจสอบว่าสายพันธุ์นี้สามารถทนต่อระดับความเครียดสารเคมี หรือสิ่งแวดล้อมอื่น ๆ ที่สูงขึ้นหลังจากสัมผัสกับเอทานอลเปรียบเทียบกับเซลล์ปกติปลูก กำหนดระดับค่าเผื่อความเครียดป้องกันข้ามวัฒนธรรมบาซิลลัส L. ปลูก 24 ชั่วโมงในที่ที่มีเอทานอล โดยเผยให้เห็นเซลล์ตายระดับของไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ (40 มม.), รังสียูวี (254 nm ตั้งแต่ 0 ถึง 180 s), กรด pH (pH 2.4), และอุณหภูมิสูง (37 ° C ถึง 53 ° C), ตลอดจนการเติบโตในความเข้มข้นของ NaCl สูง (0.6 , 0.7 และ 0.85 M)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

.
เพราะทุลักทุเลตอบสนองต่อความเครียดที่รู้จักกันถูกเปิดใช้งานใน L. plantarum WCFS1 ระหว่างการเจริญเติบโตในการปรากฏตัวของเอทานอลที่เราตรวจสอบว่าสายพันธุ์นี้สามารถทนต่อระดับที่สูงขึ้นของความเครียดสารเคมีหรือสิ่งแวดล้อมอื่น ๆ หลังจากที่สัมผัสกับเอทานอลเมื่อเทียบกับเซลล์เติบโตได้ตามปกติ ข้ามป้องกันระดับความทนทานต่อความเครียดของ L. plantarum วัฒนธรรมเติบโตขึ้นเป็นเวลา 24 ชั่วโมงในการปรากฏตัวของเอทานอลได้รับการพิจารณาโดยการเปิดเผยเซลล์ในระดับที่ตายของไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ (40 มิลลิเมตร) รังสียูวี (254 นาโนเมตรตั้งแต่ 0-180 s ) ค่า pH กรด (pH 2.4) และอุณหภูมิที่สูงขึ้น (37 ° C ถึง 53 ° C) เช่นเดียวกับการเจริญเติบโตในความเข้มข้นของโซเดียมคลอไรด์สูง (0.6, 0.7 และ 0.85 M)

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

.เพราะรู้จักความเครียดการตอบสนองทางถูกกระตุ้นใน L . plantarum wcfs1 ในระหว่างการเจริญเติบโตในการแสดงตนของเอทานอล เราตรวจสอบว่า เชื้อนี้สามารถทนต่อระดับที่สูงขึ้นของสารเคมีอื่น ๆหรือความเครียดสิ่งแวดล้อมหลังสัมผัสเอทานอลเมื่อเทียบกับปกติที่ปลูกเซลล์ ข้ามป้องกันความทนทานต่อความเครียดระดับ L . plantarum วัฒนธรรมการเติบโต 24 H ในการปรากฏตัวของเอทานอลได้รับการพิจารณาโดยเปิดเผยเซลล์ตายระดับของไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ ( 40 มม. ) , รังสี UV ( 254 นาโนเมตร ตั้งแต่ 0 ถึง 180 S ) , กรด pH ( pH 2.4 ) และอุณหภูมิสูง ( 37 ° C 53 ° C ) , เช่นเดียวกับการเติบโตในระดับความเข้มข้นเกลือสูง ( 0.6 , 0.7 และ 1.00 เมตร )