behind the metal surface. However,

behind the metal surface. However, the
same is correct for the charges placed on both sides of the dielectric interface
(nos 4–7), as the influence of the dipolar charges within dielectric I upon the
field in dielectric II can be simulated by the discrete charges nos 4 and 5 within
dielectric I and vice versa

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ด้านหลังพื้นผิวโลหะ อย่างไรก็ตาม การเหมือนจะถูกต้องสำหรับค่าวางทั้งสองด้านของอินเทอร์เฟซที่เป็นฉนวน(หมายเลข 4-7), เป็นอิทธิพลของค่า dipolar ใน dielectric ฉันตามสามารถจำลองใน II เป็นฉนวนตามหมายเลขค่าธรรมเนียมที่ไม่ต่อเนื่อง 4 และ 5 ภายในdielectric ฉัน และในทางกลับกัน

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ที่อยู่เบื้องหลังพื้นผิวโลหะ แต่
เช่นเดียวกับที่ถูกต้องสำหรับค่าใช้จ่ายที่วางไว้ทั้งสองด้านของอินเตอร์เฟซอิเล็กทริก
(ซึ่งไม่ได้ระบุ 4-7) ขณะที่อิทธิพลของค่าใช้จ่ายภายใน dipolar ฉันอิเล็กทริกเมื่อ
ข้อมูลในครั้งที่สองอิเล็กทริกสามารถจำลองโดยค่าใช้จ่ายที่ไม่ต่อเนื่องซึ่งไม่ได้ระบุที่ 4 และ 5 ภายใน
ฉันอิเล็กทริกและในทางกลับกัน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

หลังพื้นผิวโลหะ อย่างไรก็ตาม
เดียวกันถูกต้องข้อหาอยู่ในทั้งสองด้านของอินเตอร์เฟซอิเล็กทริก ( NOS )
4 7 ) เนื่องจากอิทธิพลของ dipolar ค่าใช้จ่ายภายในการฉันบน
ในเขตฉนวน II สามารถจำลองโดยค่าใช้จ่ายต่อเนื่องหมายเลข 4 และ 5 ภายในฉันและในทางกลับกัน
อิเล็กทริก