Thermal oxidation was performed wit

Thermal oxidation was performed with varying temperatures
ranging from 400 °C to 550 °C, and with varying duration ranging from 5 min to 60 min to obtain the seed layer used in nanorod formation.

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ออกซิเดชันความร้อนได้ดำเนินการกับอุณหภูมิที่แตกต่างกัน
ตั้งแต่ 400 ° C ถึง 550 ° C และมีระยะเวลาที่แตกต่างกันตั้งแต่ 5 นาทีถึง 60 นาทีเพื่อให้ได้เมล็ดพันธุ์ชั้นที่ใช้ในการก่อ nanorod

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ความร้อนกับอุณหภูมิการออกซิเดชันตั้งแต่ 400 ° C ถึง 550 องศา C และแตกต่างกับระยะเวลาตั้งแต่ 5 นาทีถึง 60 นาที เพื่อให้ได้เมล็ดพันธุ์ชั้นใช้ในการสร้าง nanorod .