The PECVD layer forms part of the c

The PECVD layer forms part of the complete oxide layer in addition to SACVD (sub-atmospheric chemical vapor deposition) layers. The latter ones have been modeled using the single-precursor model for chemical vapor deposition described previously [8]. It has to be noted that equipment related variations for the SACVD

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ส่วนฟอร์มชั้น PECVD ของชั้นออกไซด์ที่สมบูรณ์นอกจากชั้น (สะสมไอสารเคมีบรรยากาศย่อย) SACVD คนหลังมีการจำลองใช้แบบครั้งเดียวของสารตั้งต้นสำหรับการสะสมไอสารเคมีอธิบายก่อนหน้านี้พรม [8] มีการบันทึกอุปกรณ์ที่เกี่ยวข้องกับรูปแบบสำหรับการ SACVD

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ในรูปแบบชั้น PECVD ส่วนหนึ่งของชั้นออกไซด์สมบูรณ์นอกเหนือไปจาก SACVD (เคมีย่อยบรรยากาศสะสมไอ) ชั้น คนหลังได้รับการจำลองรูปแบบการใช้สารตั้งต้นเดียวสำหรับไอสารเคมีสะสมอธิบายไว้ก่อนหน้า [8] มันจะต้องมีการตั้งข้อสังเกตการเปลี่ยนแปลงอุปกรณ์ที่เกี่ยวข้องที่ SACVD

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

รูปแบบชั้น pecvd ส่วนหนึ่งของชั้นออกไซด์ที่สมบูรณ์นอกจาก sacvd ( ซับบรรยากาศไอสารเคมีสะสม ) ชั้น คนหลังถูกออกแบบโดยใช้รูปแบบเดียวเพื่อสะสมไอเคมี สารตั้งต้นที่อธิบายไว้ก่อนหน้านี้ [ 8 ] มันต้องเป็นข้อสังเกตว่า อุปกรณ์ที่เกี่ยวข้องกับการเปลี่ยนแปลงใน sacvd