The clays modified in the laborator

The clays modified in the laboratory, CBPAS and CPEIA, show a considerably lower effect on the PC degradation. The different behavior of these clays, in relation with C15, can be explained by taking into account that the chemical modifications of CBPAS and CPEIA do not contribute to the generation of acidic sites during the melt processing of the nanocomposites. On the other hand, the TEM images reveal a poor dispersion of CBPAS and CPEIA into the polymer, as well as the presence of a dark impurity around the clay in the corresponding composites (see Fig. 3). This impurity can be explained by the presence of degraded rests of the chemical modification of these clays, which are only partially eliminated during the melt processing of the nanocomposites at 250 °C. These degraded rests can hinder the dispersion of the clays into the polymer and the good contact necessary for the catalytic effect on the polycarbonate degradation.

The above results indicate that the nature (and especially some degradation processes) of the chemical modification of the clays plays a main role in the degradation of PC during the melt processing of the nanocomposites. Thus, the above results confirm that the organic modification and the amount of the layered silicate must be carefully selected in order to minimize the polymer degradation during the melt processing of the nanocomposites.

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ดินเหนียวแก้ไขในห้องปฏิบัติการและ CBPAS CPEIA แสดงผลที่ต่ำกว่ามากในการย่อยสลายพีซี พฤติกรรมที่แตกต่างกันของดินเหล่านี้ในส่วนที่เกี่ยวกับ C15, สามารถอธิบายได้โดยคำนึงถึงว่าการปรับเปลี่ยนทางเคมีของ CBPAS CPEIA และไม่นำไปสู่การสร้างเว็บไซต์ที่เป็นกรดในระหว่างการประมวลผลละลายความคล่องตัว ในทางตรงกันข้าม, ภาพ TEM เปิดเผยการกระจายตัวที่ดีของ CBPAS และ CPEIA เป็นพอลิเมอเช่นเดียวกับการปรากฏตัวของสิ่งเจือปนคล้ำรอบดินในคอมโพสิตที่สอดคล้องกัน (ดูรูปที่. 3) สิ่งเจือปนนี้สามารถอธิบายได้ด้วยการปรากฏตัวของพักผ่อนเสื่อมโทรมของการเปลี่ยนแปลงทางเคมีของดินเหล่านี้ซึ่งเป็นเพียงการตัดบางส่วนในระหว่างการประมวลผลละลายความคล่องตัวที่ 250 ° C พักผ่อนสลายเหล่านี้สามารถขัดขวางการกระจายตัวของดินเหนียวเป็นพอลิเมอและการติดต่อที่ดีที่จำเป็นสำหรับการมีผลบังคับใช้เป็นตัวเร่งปฏิกิริยาในการย่อยสลายโพลีคาร์บอเนต. ผลการดังกล่าวข้างต้นแสดงให้เห็นว่าธรรมชาติ (และโดยเฉพาะอย่างยิ่งบางกระบวนการย่อยสลาย) ของการเปลี่ยนแปลงทางเคมีของดินเหนียวเล่น บทบาทหลักในการย่อยสลายของเครื่องคอมพิวเตอร์ในระหว่างการประมวลผลละลายความคล่องตัว ดังนั้นผลดังกล่าวข้างต้นยืนยันว่าการปรับเปลี่ยนอินทรีย์และปริมาณของชั้นซิลิเกตต้องเลือกอย่างระมัดระวังเพื่อลดการย่อยสลายลิเมอร์ในระหว่างการประมวลผลละลายความคล่องตัว

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

แก้ไขดินในห้องปฏิบัติการและ cbpas cpeia แสดงมากลดผลกระทบบนพีซีลดลง พฤติกรรมของดินเหนียวที่แตกต่างกันเหล่านี้ในความสัมพันธ์กับ c15 สามารถอธิบายได้โดยคำนึงถึงว่าสารเคมีและการ cbpas cpeia ไม่สนับสนุนการสร้างกรดละลายเว็บไซต์ระหว่างการประมวลผลของนาโนคอมโพสิต . บนมืออื่น ๆเต็มๆภาพเปิดเผยกระจายยากจนและ cbpas cpeia ลงในพอลิเมอร์ ตลอดจนการแสดงของความมืดบริสุทธิ์รอบๆดินในคอมที่สอดคล้องกัน ( ดูรูปที่ 3 ) บริสุทธิ์นี้สามารถอธิบายได้โดยการแสดงตนของการสลายตัวอยู่ของการดัดแปลงทางเคมีของดินเหล่านี้ ซึ่งเป็นเพียงบางส่วนเท่านั้นที่ตัดระหว่างละลายการประมวลผลของนาโนคอมโพสิตที่ 250 องศาเหล่านี้ย่อยสลายคราบสามารถขัดขวางการแพร่กระจายของดินลงในพอลิเมอร์และการติดต่อที่ดีที่จำเป็นสำหรับผลเร่งในการย่อยสลายโพลีคาร์บอเนต

ผลข้างต้นบ่งชี้ว่า ธรรมชาติ ( และโดยเฉพาะอย่างยิ่งกระบวนการการย่อยสลายของการดัดแปลงทางเคมีของดินมีบทบาทหลักในการย่อยสลายของ PC ในการประมวลผล ละลาย และนาโนคอมพอสิท . ดังนั้นจากผลดังกล่าวข้างต้นยืนยันว่า การปรับอินทรีย์ และปริมาณของชั้นซิลิเกตต้องเลือกอย่างระมัดระวังเพื่อลดการย่อยสลายในพอลิเมอร์หลอมการประมวลผลของนาโนคอมโพสิต .