Energy-controlled exposure of the r

Energy-controlled exposure of the resist is an effective
method to fabricate size-tunable Ni nanostructures by simply removing
the residual layer of the resist patterns

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ควบคุมพลังงานแสงของตัวต้านทานมีประสิทธิภาพวิธีการสาน nanostructures Ni สามารถปรับขนาด โดยเพียงแค่ลบชั้นที่เหลือของรูปแบบการต่อต้าน

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

การสัมผัสพลังงานควบคุมต่อต้านที่มีประสิทธิภาพ
วิธีการประดิษฐ์ขนาดพริ้งโครงสร้างนาโน Ni โดยเพียงแค่การเอา
ชั้นที่เหลือของรูปแบบการต่อต้าน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

พลังงานควบคุมแสงของทานที่มีประสิทธิภาพวิธีการสานขนาดนาโนโดยเพียงแค่การลบพริ้ง นิเลเยอร์ที่เหลือของต่อต้านรูปแบบ