In addition, the resolution of wet

In addition, the resolution of wet etching is generally limited to ~10 µm. Dry etching would allow much finer patterns but is time-consuming for a multilayered Ni-based substrate

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

แห่ง ของกัดเปียกโดยทั่วไปจำกัดอยู่ที่ ~ 10 µm. กัดแห้งจะช่วยให้รูปแบบปลีกย่อยมาก แต่จะใช้เวลานานสำหรับกับพื้นผิวโดยใช้ Ni multilayered

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

นอกจากนี้ความละเอียดของการแกะสลักเปียกจะถูก จำกัด โดยทั่วไป ~ 10 ไมครอน แกะสลักแห้งจะช่วยให้รูปแบบปลีกย่อยมาก แต่จะใช้เวลานานสำหรับพหุพื้นผิว Ni-based

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

นอกจากนี้ ความละเอียดของภาพเปียกทั่วไป ( ~ 10 µเมตร บริการแกะสลักจะช่วยให้มากขึ้น รูปแบบ แต่จะใช้เวลานานสำหรับมัลติเลเยอร์ชั้นพื้นผิวจาก