HF dip [HFDIP]Setup time for this p

HF dip [HFDIP]
Setup time for this process is about 5 minutes. This process takes about 5 minutes to
complete.
Hydrofluoric acid (HF) is used to remove native silicon dioxide from wafers. Since it
acts quickly, one needs to only expose the wafer fro a short time (“dip”). HF is a
dangerous chemical and protective gear must be worn when using it, in particular,
neoprene or thick nitrile gloves and eye protection must be worn.
A prepared solution should already be available to you. If not, here is how to prepare a
2% solution.
480 ml water
20 ml HF (49%)
Wear heavy protective gloves and protective eye gear. Add 480 ml water to
polyproplene beaker then, add 20 ml HF. Never use a glass beaker with HF since HF
attacks glass. Label the bottle “2% HF solution-Dangerous acid!” then, add your name
and the date.
Soak the wafer for 2 minutes in this solution. Remove the wafer and rinse in running DI
water. Check for hydrophobicity by performing a wetting test. Pour a little DI water on
the surface. If the water beads up and rolls off, the surface is hydrophobic and water will
not wet it. Since oxide is hydrophilic and pure silicon is hydrophobic, a non-wetting
surface is clean of oxides. Blow dry with nitrogen and store in a clean, dry environment.
The 2% solution may be saved for other cleaning. (It does not lose its effectiveness). To
dispose the 2% HF solution, pour into an INRF labeled waste container for 2% HF. Very
small amounts of 2% HF may be disposed by diluting with cold water, then flushing
down the drain with plenty of cold water.
Be sure to wash your neoprene gloves and return to their proper location when finished.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

HF จุ่ม [HFDIP]เวลาเซ็ตอัพสำหรับกระบวนการนี้คือประมาณ 5 นาที กระบวนการนี้ใช้เวลาประมาณ 5 นาทีเสร็จสมบูรณ์กรดไฮโดรฟลูออริก (HF) จะใช้เป็นซิลิกอนไดออกไซด์ออกรับ นับตั้งแต่กระทำได้อย่างรวดเร็ว ความต้องการหนึ่งประจานเท่า แผ่นเวเฟอร์จากเวลาสั้น ๆ ("บริการ") HF เป็นการอุปกรณ์สารเคมี และป้องกันอันตรายต้องสวมใส่เมื่อใช้ โดยเฉพาะต้องสวม neoprene หรือหนาฟรี และป้องกันตาโซลูชั่นที่เตรียมไว้ควรใช้แล้ว ถ้าไม่ นี่คือวิธีการเตรียมตัว2% การแก้ปัญหาน้ำ 480 mlปริมาณ 20 ml HF (49%)สวมถุงมือป้องกันหนักและเกียร์ป้องกันตา เพิ่มน้ำ 480 mlpolyproplene บีกเกอร์แล้ว เพิ่ม 20 ml HF ไม่เคยใช้กับบีกเกอร์แก้วกับ HF ตั้งแต่ HFโจมตีแก้ว ติดฉลากขวด "2% HF โซลูชันอันตรายกรด" แล้ว เพิ่มชื่อของคุณและวันแช่แผ่นเวเฟอร์ 2 นาทีในโซลูชันนี้ เอาแผ่นเวเฟอร์ และล้างในใช้ DIน้ำ ตรวจสอบ hydrophobicity โดยทำการทดสอบที่เปียก ราดน้ำ DI น้อยพื้นผิว ถ้าน้ำลูกปัดขึ้น และม้วนออก ผิวเป็น hydrophobic และน้ำจะไม่เปียกน้ำได้ เนื่องจากออกไซด์เป็น hydrophilic และซิลิคอนบริสุทธิ์เป็น hydrophobic ที่ไม่ใช่ที่เปียกผิวจะสะอาดของออกไซด์ เป่าแห้งไนโตรเจนและเก็บในสภาพแวดล้อมที่สะอาด แห้งโซลูชัน 2% ที่จะถูกบันทึกสำหรับการทำความสะอาดอื่น ๆ (มันไม่เสียมัน) ถึงกำจัดโซลูชัน HF 2% เทลงใน INRF มีป้ายภาชนะเสีย 2% HF. มากเงิน 2% HF อาจตัดจำหน่าย โดย diluting น้ำเย็น แล้วลบลงท่อระบายน้ำด้วยน้ำเย็นตรวจสอบให้แน่ใจว่าล้างถุงมือของ neoprene และกลับไปยังตำแหน่งเหมาะสมของพวกเขาเมื่อเสร็จแล้ว

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

HF จุ่ม [HFDIP]
เวลาการตั้งค่าสำหรับขั้นตอนนี้เป็นเวลาประมาณ 5 นาที กระบวนการนี้ใช้เวลาประมาณ 5 นาทีเพื่อ
ให้
กรดไฮโดรฟลูออริก (HF) ถูกนำมาใช้เพื่อเอาซิลิกอนไดออกไซด์พื้นเมืองจากช็อคโกแลต เพราะมัน
ทำหน้าที่ได้อย่างรวดเร็วหนึ่งต้องเท่านั้นเปิดเผยเวเฟอร์เทียวระยะเวลาอันสั้น ("กรมทรัพย์สินทางปัญญา") HF เป็น
สารเคมีที่เป็นอันตรายและอุปกรณ์ป้องกันต้องสวมใส่เมื่อใช้มันโดยเฉพาะอย่างยิ่ง
เทียมหรือถุงมือไนไตรล์หนาและป้องกันตาต้องสวมใส่
สารละลายที่เตรียมไว้แล้วควรจะมีให้คุณ ถ้าไม่ได้และนี่คือวิธีการเตรียมความพร้อม
การแก้ปัญหา 2%
480 มลน้ำ
20 มิลลิลิตร HF (49%)
สวมถุงมือหนักและเกียร์ตาป้องกัน เพิ่ม 480 มลน้ำ
polyproplene ถ้วยแก้วแล้วเพิ่ม 20 มล HF ไม่เคยใช้บีกเกอร์แก้วที่มี HF ตั้งแต่ HF
โจมตีแก้ว ฉลากขวด "กรดวิธีการแก้ปัญหาที่เป็นอันตราย 2% HF!" จากนั้นให้เพิ่มชื่อของคุณ
และวันที่
แช่เวเฟอร์ 2 นาทีในการแก้ปัญหานี้ ลบเวเฟอร์และล้างใน DI ทำงาน
น้ำ ตรวจสอบ hydrophobicity โดยการทดสอบปัสสาวะรดที่นอน เทน้ำ DI เล็ก ๆ บน
พื้นผิว หากเม็ดน้ำขึ้นและม้วนออกจากพื้นผิวที่เป็นน้ำและน้ำจะ
ไม่เปียกมัน ตั้งแต่ออกไซด์เป็นน้ำและซิลิกอนบริสุทธิ์เป็นสารที่ไม่เปียก-
พื้นผิวที่สะอาดของออกไซด์ เป่าให้แห้งด้วยไนโตรเจนและเก็บในสภาพแวดล้อมที่สะอาดแห้ง
การแก้ปัญหา 2% อาจจะถูกบันทึกไว้สำหรับทำความสะอาดอื่น ๆ (มันไม่ได้สูญเสียความมีประสิทธิภาพของมัน) ที่จะ
ทิ้งการแก้ปัญหา HF 2% เทลงในภาชนะที่มีข้อความ INRF เสีย 2% HF มาก
ขนาดเล็กจำนวน 2% HF อาจถูกกำจัดโดยเจือจางด้วยน้ำเย็นแล้วล้าง
ลงท่อระบายน้ำมีความอุดมสมบูรณ์ของน้ำเย็น
ให้แน่ใจว่าได้ล้างถุงมือนีโอพรีของคุณและกลับไปยังตำแหน่งที่เหมาะสมของพวกเขาเมื่อเสร็จสิ้น

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

HF จุ่ม [ hfdip ]
ตั้งค่าเวลาในกระบวนการนี้ประมาณ 5 นาที ขั้นตอนนี้ใช้เวลาประมาณ 5 นาทีก็เสร็จ

.
กรดกัดแก้ว ( HF ) คือ เคยเอาซิลิคอนไดออกไซด์พื้นเมืองจากเวเฟอร์ ตั้งแต่มัน
การกระทำอย่างรวดเร็ว , ต้องการเพียงแสดงเวเฟอร์เทียวเวลาสั้น ( " จิ้ม " ) HF เป็นสารเคมีที่เป็นอันตรายและป้องกันเกียร์
ต้องใส่เมื่อใช้มัน โดยเฉพาะ
Neoprene หรือถุงมือไนไตรหนาและต้องสวมใส่เครื่องป้องกันดวงตา .
เตรียมสารละลายแล้วควรจะสามารถใช้ได้กับคุณ ถ้าไม่ , ที่นี่เป็นวิธีการเตรียมสารละลาย 1 %
.
480 มิลลิลิตรน้ำ
20 ml HF ( 49% )
สวมถุงมือป้องกันที่หนักและอุปกรณ์ป้องกันดวงตา . เติม 480 มิลลิลิตรน้ำ

polyproplene บีกเกอร์แล้วเพิ่ม 20 ml HF . ไม่เคยใช้บีกเกอร์กับ HF ตั้งแต่ HF
โจมแก้วฉลากขวด " 2 % โดยโซลูชั่นอันตรายกรด ! " แล้วเพิ่ม

ชื่อและวันที่ แช่แผ่น 2 นาทีในการแก้ปัญหานี้ เอาเวเฟอร์และล้างในน้ำ วิ่งดี
. โดยการตรวจสอบความไม่ชอบน้ำทดสอบ เทน้ำบนพื้นผิวน้อยดี
. ถ้าน้ำลูกปัดและม้วนออก พื้นผิวเป็นไฮโดรโฟบิกและน้ำจะ
ไม่เปียกเลยเนื่องจากมีน้ำและออกไซด์ ซิลิคอนบริสุทธิ์เป็นไฮโดรโฟบิก ไม่เปียก
ผิวสะอาดของออกไซด์ เป่าแห้งกับไนโตรเจนและเก็บในที่แห้งสะอาด สิ่งแวดล้อม .
2 % โซลูชั่นที่อาจจะถูกบันทึกไว้สำหรับการทำความสะอาดอื่น ๆ ( มันไม่ได้สูญเสียประสิทธิภาพ )

ทิ้ง 2 % โดยโซลูชั่นเทเป็น inrf ติดป้ายว่าตู้เสีย 2% HF .
มากๆจำนวนเงินขนาดเล็กของ 2 % โดยอาจจะทิ้งโดยเจือจางกับน้ำที่เย็นแล้วล้างลงท่อระบายน้ำที่มีมากมาย

น้ำหนาว ให้แน่ใจว่าได้ล้างถุงมือ neoprene และกลับไปยังสถานที่ที่เหมาะสมของพวกเขาเมื่อเสร็จสิ้น