The surface and bulk properties of

The surface and bulk properties of NiOx/TiO2 samples prepared were characterized by different methods. BET surface area was measured by N2 adsorption at −196 °C (Quantachrome NOVA 1000). Prior to N2 physisorption, the samples were degassed under vacuum at 150 °C for 2 h. Structural properties were examined by powder X-ray diffraction (XRD) (Rigaku D/Max-2500 PC) with Cu Kα radiation and a Ni filter. XRD patterns were measured from 20° to 80° at a rate of 1° min−1. Diffuse reflection UV/vis spectra were recorded under ambient conditions (Shimadzu UV-3100PC) using BaSO4 matrix as background under ambient conditions. The spectra measured were converted to the absorption spectra by using the Kubelka–Munk function. X-ray photoelectron spectroscopy (JEOL JPS-9200) was used to examine the surface properties and all the binding energies were referenced with respect to the Ti 2p at 485.5 eV [17].

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

คุณสมบัติพื้นผิว และเป็นกลุ่มตัวอย่าง NiOx/TiO2 เตรียมถูกลักษณะ โดยวิธีต่าง ๆ พื้นที่ผิวเดิมพันถูกวัด โดยการดูดซับ N2 ที่ −196 ° C (Quantachrome โน 1000) ก่อน N2 physisorption ตัวอย่างได้ degassed ภายใต้สุญญากาศที่อุณหภูมิ 150 ° C สำหรับ 2 h. โครงสร้างคุณสมบัติถูก examined โดยผงเลี้ยวเบน X-ray (XRD) (พีซี Rigaku D/Max-2500) กับตัว Ni และ Cu Kα รังสี รูปแบบ XRD ถูกวัดจาก 20° ถึง 80° min−1 1° อัตรา แสงพร่ารโฟสเปกตรัมบันทึกสภาวะแวดล้อม (Shimadzu UV 3100PC) โดยใช้เมทริกซ์ BaSO4 เป็นพื้นหลังภายใต้สภาพแวดล้อม มุมที่วัดได้แปลงเป็นสเปกตรัมการดูดซึม โดยใช้ฟังก์ชัน Kubelka – Munk X-ray photoelectron สเปกโทรสโก (JEOL JPS-9200) ถูกใช้เพื่อตรวจสอบคุณสมบัติพื้นผิว และพลังงานรวมทั้งหมดที่ถูกอ้างถึงเกี่ยวกับ Ti p 2 ที่ eV 485.5 [17]

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

พื้นผิวและเป็นกลุ่มคุณสมบัติของตัวอย่าง NiOx / TiO2 เตรียมโดดเด่นด้วยวิธีการต่าง ๆ พื้นที่ผิว BET โดยวัดจากการดูดซับที่ N2 -196 ° C (Quantachrome NOVA 1000) ก่อนที่จะ physisorption N2 ตัวอย่างถูกกำจัดก๊าซภายใต้สูญญากาศที่ 150 องศาเซลเซียสเป็นเวลา 2 ชั่วโมง คุณสมบัติโครงสร้างที่ถูกตรวจสอบโดยผง X-ray การเลี้ยวเบน (XRD) (PC Rigaku D / แม็กซ์-2500) กับ Cu Kαการฉายรังสีและตัวกรอง Ni รูปแบบ XRD ถูกวัดจาก 20 °ถึง 80 °ในอัตรา 1 °นาที 1 รังสียูวีแสงพร่า / Vis สเปกตรัมถูกบันทึกไว้ภายใต้สภาวะแวดล้อม (Shimadzu UV-3100PC) โดยใช้ BaSO4 เมทริกซ์เป็นพื้นหลังภายใต้สภาวะแวดล้อม สเปกตรัมวัดถูกแปลงเป็นสเปกตรัมการดูดซึมโดยใช้ฟังก์ชั่น Kubelka-มังค์ เอ็กซ์เรย์โฟโตอิเล็กตรอนสเปกโทรสโก (JEOL JPS-9200) ถูกนำมาใช้ในการตรวจสอบคุณสมบัติของพื้นผิวและทุกพลังงานที่มีผลผูกพันที่ถูกอ้างถึงด้วยความเคารพต่อ Ti 2p ที่ 485.5 eV [17]

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

พื้นผิวและคุณสมบัติของ niox / TiO2 ได้เตรียมตัวอย่างถูกลักษณะ โดยวิธีที่แตกต่างกัน พื้นที่ผิวเดิมพันถูกวัดด้วยการดูดซับที่− 2 196 องศา C ( quantachrome โนวา 1000 ) ก่อนที่จะดูดซับจำนวน 2 , degassed ในสุญญากาศที่อุณหภูมิ 150 องศา C เป็นเวลา 2 ชั่วโมง โครงสร้าง คุณสมบัติ เหมาะสม โดยผงการเลี้ยวเบนของรังสีเอ็กซ์ ( rigaku D / max-2500 PC ) ที่มี Cu K αรังสีและชั้นกรอง วิเคราะห์แบบวัดจาก 20 / 80 องศาในอัตรา 1 °มิน− 1 เจียวก้าน UV / VIS สเปกตรัมได้ถูกบันทึกไว้ภายใต้สภาวะแวดล้อม ( Shimadzu uv-3100pc ) ใช้ baso4 Matrix เป็นพื้นหลังภายใต้สภาวะแวดล้อม วัดนี้ถูกแปลงเป็นสเปกตรัมการดูดกลืน kubelka –มั๊ง โดยใช้ฟังก์ชัน เครื่อง X-ray photoelectron spectroscopy ( จอล jps-9200 ) ถูกใช้ในการตรวจสอบคุณสมบัติของพื้นผิวและการจับพลังถูกอ้างอิงต่อ Ti 2p ที่ 485.5 EV [ 17 ]