Radio Frequency Magnetron Sputterin

Radio Frequency Magnetron Sputtering
Magnetrons are a class of cold cathode discharge devices used generally in a diode mode. The plasma is initiated between the cathode and the anode at pressures in the mTorr range by the application of a high voltage that can be either DC or RF.The plasma is sustained by the ionization caused by secondary electrons emitted from the cathode due to ion bombardment which are accelerated into the plasma across the cathode sheath. What differentiates a magnetron cathode from a conventional diode cathode is the presence of a magnetic field. The magnetic filed in the magnetron is oriented parallel to the cathode surface. The local polarity of magnetic field is oriented
such that E×B drift of the emitted secondary electrons forms a closed loop. Due to the increased confinement of the secondary electrons in this E×B drift loop compared to a DC diode device, the plasma density will be much higher, often by an order of magnitude or more, than a conventional DC diode system.
Magnetron sputtering is a low-cost and easy control
method for film growth, especially suitable for large-scale
film deposition.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

คลื่นความถี่วิทยุ Magnetron พ่นMagnetrons คลาของแคโทดเย็นจำหน่ายอุปกรณ์ใช้ในโหมดไดโอดโดยทั่วไปได้ พลาสมาจะเริ่มต้นระหว่างแคโทดและแอโนดที่ความดันในช่วง mTorr โดยใช้แรงดันสูงที่สามารถเป็น DC หรือ RF พลาสมาจะยั่งยืน โดย ionization รองอิเล็กตรอนออกมาจากแคโทดเนื่องจากการระดมยิงไอออนซึ่งเร่งข้าม sheath แคโทดเป็นพลาสมาเกิดจาก สิ่งแตกต่างแคโทด magnetron จากแคโทดไดโอดธรรมดาคือ ของสนามแม่เหล็ก แม่เหล็กใน magnetron ได้แนวแบบขนานกับผิวแคโทด ภายในขั้วของสนามแม่เหล็กคือแนวเช่นว่า ดริฟท์ E × B ของอิเล็กตรอนรอง emitted แบบลูปปิด เนื่องจากถูกควบคุมตัวที่เพิ่มขึ้นของอิเล็กตรอนรองในวงนี้ดริฟท์ E × B เมื่อเทียบกับอุปกรณ์ไดโอด DC ความหนาแน่นของพลาสมาจะสูงมาก มักจะ โดยการสั่งของขนาดหรือมากกว่า ไดโอดทั่วไป DC ระบบ Magnetron พ่นจะควบคุมต้น ทุนต่ำ และง่ายวิธีการสำหรับฟิล์มเติบโต โดยเฉพาะอย่างยิ่งเหมาะสำหรับขนาดใหญ่ฟิล์มสะสม

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

Radio Frequency Magnetron Sputtering
magnetrons เป็นชั้นของอุปกรณ์ปล่อยแคโทดเย็นโดยทั่วไปจะใช้ในโหมดไดโอด พลาสม่าจะเริ่มระหว่างขั้วลบและขั้วบวกที่แรงกดดันในช่วง mTorr โดยการประยุกต์ใช้แรงดันสูงที่สามารถเป็นได้ทั้ง DC หรือพลาสม่า RF.The ที่ยั่งยืนโดยการไอออไนซ์ที่เกิดจากอิเล็กตรอนออกมาจากแคโทดเนื่องจากการโจมตีไอออน ซึ่งมีการเร่งในพลาสมาทั่วฝักแคโทดที่ สิ่งที่แตกต่างแคโทดแมกจากแคโทดไดโอดธรรมดาคือการปรากฏตัวของสนามแม่เหล็ก แม่เหล็กยื่นในแมกเป็นเชิงขนานไปกับพื้นผิวแคโทด ขั้วท้องถิ่นของสนามแม่เหล็กที่มุ่งเน้นดังกล่าวว่า E × B ดริฟท์ของอิเล็กตรอนที่ปล่อยออกมาในรูปแบบวงปิด
เนื่องจากการคุมขังที่เพิ่มขึ้นของอิเล็กตรอนรองใน E นี้×วงดริฟท์ B เมื่อเทียบกับอุปกรณ์ไดโอดซีหนาแน่นของพลาสม่าจะสูงมากโดยมักจะลำดับความสำคัญหรือมากกว่ากว่าระบบไดโอดธรรมดา DC.
สปัตเตอร์ Magnetron คือ
ค่าใช้จ่ายที่ต่ำและง่ายต่อการควบคุมวิธีการสำหรับการเจริญเติบโตภาพยนตร์โดยเฉพาะอย่างยิ่งเหมาะสำหรับขนาดใหญ่ทับถมภาพยนตร์

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

แมกนีตรอนสปัตเตอริง

คลื่นความถี่วิทยุสามารถ magnetrons มีคลาสของแคโทดเย็นจำหน่ายอุปกรณ์ที่ใช้โดยทั่วไปในการใช้โหมด พลาสมาเริ่มระหว่างแคโทดและแอโนดที่แรงกดดันในช่วง mtorr โดยการประยุกต์ใช้แรงดันสูงที่สามารถเป็นได้ทั้ง DC หรือ RFพลาสมาคือยั่งยืนโดยไอออนไนซ์อิเล็กตรอนทุติยภูมิที่เกิดจากออกมาจากแคโทดเนื่องจากไอออนในพลาสมา ซึ่งจะเร่งโจมตีข้ามขั้วฝัก สิ่งที่แตกต่างจากแคโทดแมกนีตรอนแคโทดไดโอดธรรมดาคือการปรากฏตัวของสนามแม่เหล็ก ที่สนามแม่เหล็กในตรอนเป็นเชิงขนานกับพื้นผิวที่แคโทดขั้วท้องถิ่นของสนามแม่เหล็กเป็นเชิง
เช่น E × B ล่องลอยของออกมารองอิเล็กตรอนฟอร์มวงปิด เนื่องจากการเพิ่มขึ้นของอิเล็กตรอนทุติยภูมิใน E × B ลอยวนเมื่อเทียบกับ DC อุปกรณ์ไดโอด พลาสม่าความหนาแน่นจะสูงมาก มักจะ โดยคำสั่งของขนาดหรือมากขึ้นกว่าปกติ ไดโอด
DC ระบบแมกนีตรอนสปัตเตอริงเป็นต้นทุนต่ำและง่ายต่อการควบคุม
วิธีฟิล์ม เหมาะอย่างยิ่งสำหรับการสะสมภาพยนตร์ขนาดใหญ่