The steps in the fabrication proces

The steps in the fabrication process described here, and illustrated in figure 1-12, would produce an npn, planar-diffused transistor. But, with slight variations, the technique may also be applied to the production of a complete circuit, including diodes, resistors, and capacitors. The steps are performed in the following order:

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ขั้นตอนในกระบวนการผลิตอธิบายไว้ที่นี่ และภาพประกอบในรูปที่ 1-12 ที่จะผลิตเป็น npn ระนาบกระจายทรานซิสเตอร์ แต่ มีการเปลี่ยนแปลงเล็กน้อย เทคนิคอาจสามารถใช้กับการผลิตวงจรสมบูรณ์ รวม ถึงไดโอด ตัวต้านทาน ตัวเก็บประจุ ขั้นตอนดำเนินการในลำดับต่อไปนี้:

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ขั้นตอนในกระบวนการผลิตที่อธิบายที่นี่และภาพประกอบในรูปที่ 1-12 จะผลิต NPN, ภาพถ่ายพร่าทรานซิสเตอร์ แต่มีการเปลี่ยนแปลงเล็กน้อยเทคนิคก็อาจจะนำไปใช้กับการผลิตที่ครบวงจรรวมทั้งไดโอด, ตัวต้านทานและตัวเก็บประจุ ขั้นตอนที่จะดำเนินการในลำดับต่อไปนี้

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ขั้นตอนในกระบวนการผลิตที่อธิบายไว้ที่นี่ และแสดงในรูปที่ 1 จะผลิตทรานซิสเตอร์ NPN ระนาบ , กระจาย . แต่กับการเปลี่ยนแปลงเล็กน้อย , เทคนิคอาจยังใช้ในการผลิตวงจรที่สมบูรณ์รวมทั้งไดโอด , ตัวต้านทานและตัวเก็บประจุ ขั้นตอนจะดำเนินการในลำดับต่อไปนี้ :