Reactive gas (silanefor silicon gro

Reactive gas (silane
for silicon growth) is delivered to this locally heated area
and therefore decomposes, leaving behind a small amount
of material deposited on the surface. While the material is
being deposited, the piezoelectric stage holding the substrate
moves relative to the focused laser spot, making the conductive
lines into the desired pattern. A schematic illustrating
the experimental setup is shown in

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ปฏิกิริยาแก๊ส (silaneสำหรับการเติบโตของซิลิคอน) ถูกส่งไปบริเวณนี้อุ่นเครื่องดังนั้น decomposes ออกด้านหลังเล็กน้อยฝากบนพื้นผิววัสดุ ขณะวัสดุการฝากเงิน ขั้น piezoelectric ที่จับกับพื้นผิวย้ายสัมพันธ์กับจุดโฟกัสเลเซอร์ ทำการไฟฟ้ารายการในรูปแบบที่ต้องการ แผนผังตัวอย่างแสดงแสดงการตั้งค่าการทดลอง

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ก๊าซปฏิกิริยา
(ไซเลนสำหรับการเจริญเติบโตซิลิกอน) จะถูกส่งไปยังพื้นที่นี้อุ่นทั้งในประเทศและดังนั้นจึงสลายตัวออกจากหลังจำนวนเงินขนาดเล็กของวัสดุที่วางอยู่บนพื้นผิว ในขณะที่วัสดุที่ถูกฝากขั้น piezoelectric ถือสารตั้งต้นย้ายเทียบกับจุดเน้นเลเซอร์ทำให้กระแสไฟฟ้าเส้นเข้ามาในรูปแบบที่ต้องการ แผนผังแสดงการตั้งค่าการทดลองปรากฏอยู่ใน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ปฏิกิริยาก๊าซไซเลน
สำหรับการเจริญเติบโตซิลิคอน ) ถูกส่งไปยังพื้นที่อุ่นภายใน
จึงสลายตัวไปข้างหลังเล็กน้อย
วัสดุฝากบนพื้นผิว ในขณะที่วัสดุ
ถูกฝากเพียโซอิเวทีถือพื้นผิว
ย้ายเมื่อเทียบกับเน้นแสงเลเซอร์จุด ทำให้สายนำ
ที่ต้องการลงในรูปแบบ เป็นแผนผังแสดง
การติดตั้งทดลองที่แสดงใน