0.5 g of silica (CO2H-grafted or ac

0.5 g of silica (CO2H-grafted or activated SiO2 by an acid treatment
to augment the number of reactive silanol groups [36]) was
added to 100 ml of 2% chitosan solution (dissolved in acetic acid
solution at 1%) and stirred overnight. Then, this suspension was
poured under stirring into 500 ml of 0.1 M NaOH in order to neutralize
excess acid. The core–shell particles were then filtered off
and washed with DI water. The material was dried in an oven at
40 ◦C, crushed and kept in a desiccator until use [36].

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

0.5 g ของซิลิกา (CO2H grafted หรือเปิด SiO2 โดยรักษาเป็นกรดการเพิ่มจำนวนของกลุ่ม silanol ปฏิกิริยา [36]) ได้เพิ่ม 100 ml ของ 2% ไคโตซาน (ละลายในกรดอะซิติกวิธีที่ 1%) และกวนข้ามคืน จากนั้น นี้ระงับได้poured ใต้กวนเป็น 500 ml ของ 0.1 M NaOH เพื่อแก้กรดส่วนเกิน อนุภาคหลักเชลล์แล้วก็กรองออกและหินน้ำ DI วัสดุถูกอบแห้งในเตาอบที่40 ◦C บด และเก็บไว้ในที่ desiccator จนใช้ [36]

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

0.5 กรัมของซิลิกา (CO2H-ทาบหรือเปิดใช้งาน SiO2 โดยการรักษากรด
เพื่อเพิ่มจำนวนของกลุ่ม silanol ปฏิกิริยา [36]) ได้รับ
การบันทึกอยู่ใน 100 มล. 2% วิธีการแก้ปัญหาไคโตซาน (ละลายในกรดอะซิติก
แก้ปัญหา ณ วันที่ 1%) และกวนในชั่วข้ามคืน . จากนั้นระงับนี้
ภายใต้ตื่นเต้นเทลงใน 500 มล. 0.1 M NaOH เพื่อแก้
กรดส่วนเกิน อนุภาคแกนเปลือกถูกกรองออก
และล้างด้วยน้ำ DI วัสดุที่แห้งในเตาอบที่
40 ◦Cบดและเก็บไว้ในเดซิจนถึงการใช้งาน [36]

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

0.5 กรัม ซิลิกา ( SiO2 co2h ต่อกิ่งหรือกระตุ้นโดยกรดรักษา
ต่อเติมจำนวน 3 หมู่ซิลานอล [ 36 ] )
เพิ่ม 100 มิลลิลิตรของสารละลายไคโตซาน 2 % ( ละลายในสารละลายกรดอะซิติกกรด
1 % ) และแบบค้างคืน แล้วช่วงล่างนี้
เทภายใต้ 500 มิลลิลิตรกวนใน 0.1 M NaOH เพื่อแก้
กรดส่วนเกิน หลัก–กะลาไปได้แล้วกรองออก
และล้างด้วยน้ำ DI . วัสดุอบแห้งในเตาอบที่
40 ◦ C , บดและเก็บไว้ในเดซิกเคเตอร์จนใช้ [ 36 ]