Finally, with increase of seed laye

Finally, with increase of seed layer thickness to 320 nm (Fig. 3D),
the surface has minimum roughness frequency and nanorods with
much better alignment are obtained (Fig. 1H).
The average roughness of the seed layer measured from the
surface profiler is shown in Fig. 4.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ในที่สุด กับการเพิ่มขึ้นของเมล็ดชั้นความหนา 320 nm (Fig. 3D),พื้นผิวมีความหยาบน้อยความถี่และ nanorods ด้วยการจัดตำแหน่งที่ดีมากจะได้รับ (Fig. 1 H)ความหยาบเฉลี่ยของชั้นเมล็ดโดยวัดจากการตัวสร้างโพรไฟล์ที่พื้นผิวจะปรากฏใน Fig. 4

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

สุดท้ายกับการเพิ่มความหนาของชั้นเมล็ดถึง 320 นาโนเมตร (รูป. 3D),
พื้นผิวที่มีความถี่ขรุขระต่ำสุดและแท่งนาโนกับการจัดตำแหน่งที่ดีมากที่จะได้รับ (รูป. 1H). ขรุขระเฉลี่ยของชั้นเมล็ดวัดจากProfiler ผิว แสดงในรูป 4

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

สุดท้าย เพิ่มความหนาชั้นเมล็ด 320 nm ( รูปที่ 3 ) ,
พื้นผิวขรุขระและมีความถี่ต่ำสุด nanorods กับ
ดีกว่า จัดได้ ( รูปที่ 1 ) .
ความหยาบเฉลี่ยของเมล็ดพันธุ์ชั้นวัดจากพื้นผิว Profiler แสดงในรูป
4