2.3.3. Focused ion beam (FIB) analy

2.3.3. Focused ion beam (FIB) analysis
Dual beam FIB-SEM was used for cross-section milling of the
coating locally on the alloy matrix, and above the intermetallic particles. A Ga ion beam was operated at 30 kV with ion current in the range of 0.5–20 nA. Before milling, the areas of interest were covered by depositing Pt with a thickness of 2 m in order to protect it from the ion beam damage

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

2.3.3 ลำแสงไอออนที่มุ่งเน้น (ตอแหล) การวิเคราะห์
Dual Beam FIB-SEM ถูกใช้สำหรับการตัดมิลลิ่งของ
การเคลือบไว้บนเมทริกซ์อัลลอยด์และเหนืออนุภาค intermetallic ลำแสงไอออน Ga ดำเนินการวันที่ 30 กิโลโวลต์ที่มีไอออนปัจจุบันอยู่ในช่วง 0.5-20 นา ก่อนที่จะสี, พื้นที่ที่น่าสนใจถูกปกคลุมโดยการฝาก Pt มีความหนา 2? เมตรเพื่อป้องกันความเสียหายจากลำแสงไอออน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

2.3.3 . โฟกัสไอออนบีม ( FIB ) การวิเคราะห์fib-sem คานคู่ ใช้สำหรับตัดกัดของโลหะผสมเคลือบภายในเมทริกซ์และสูงกว่าอนุภาคชนิด . เป็น กา ลำแสงไอออนดำเนินการ 30 kV กับไอออนในปัจจุบันอยู่ในช่วง 0.5 – 20 นา ก่อนกัด พื้นที่ของดอกเบี้ยที่ถูกปกคลุมด้วยการฝาก PT ที่มีความหนา 2 เมตร เพื่อที่จะปกป้องมันจากความเสียหายลำแสงไอออน